Gebraucht KLA / TENCOR / ICOS CI-T120 #9149645 zu verkaufen

KLA/TENCOR/ICOS CI-T120 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches Halbleiterbildgebungs- und Inspektionssystem. Es wurde entwickelt, um Submikron-Defekte auf einer Vielzahl von Masken- und Waferoberflächen zu lokalisieren. KLA CI T120 ist eine optische Inspektionseinheit und gehört zu den fortschrittlichsten Systemen ihres Typs. Es verfügt über ein optisches Hellfeld-Mikroskop, das entwickelt wurde, um Partikel und andere Defekte innerhalb der Musterbereiche auf einer Maske oder einem Wafer genau zu untersuchen und zu erkennen. Es verwendet fortschrittliche Bildverarbeitungsalgorithmen, um Defekte mit großer Genauigkeit und verschiedenen Messtechniken anzuzeigen, um die Qualitätskontrolle sicherzustellen. Die Maschine von ICOS CI T 120 verwendet einen fortschrittlichen, hochauflösenden Bildsensor und eine optimierte Optik, die eine extrem hohe Vergrößerung ermöglicht und eine 3D-Bildgebungsfähigkeit bei Auflösungen von bis zu 0,5 Mikrometern bietet. Diese Bildauflösung und Vergrößerung hilft bei der Erkennung und Charakterisierung von Partikeln und anderen Defekten auf Mustern in Flachbildschirmen und integrierten Schaltungen. TENCOR CI-T120 wird von 3 Softwarelösungen begleitet: CORE PartsFinder, der die Erkennung und Analyse von Fehlern in Echtzeit ermöglicht; KXDI zur Mängelklassifizierung; und Check-It InSight Software zur Beurteilung und Minimierung von Rauschen im Bild. Es nutzt auch die Bilderkennung von Teratech zur Fehleranalyse. In Bezug auf die Performance ist TENCOR CI T120 einer der besten auf dem Markt. Es hat eine schnelle Inspektionsgeschwindigkeit, eine ausgezeichnete Fehlerabdeckung und eine hohe Durchsatzrate. Es ist ein geeignetes Werkzeug für Forschung und Produktion, da es sehr kleine Partikel und andere Defekte an einem Wafer oder einer Maske erkennen kann. Insgesamt wurde KLA CI T 120 Mask & Wafer Inspection Asset entwickelt, um eine hochauflösende, genaue und zuverlässige Lösung für die Erkennung kleiner Partikel und anderer Defekte auf einer Vielzahl von Masken- und Waferoberflächen bereitzustellen. Es hat eine schnelle Inspektionsgeschwindigkeit und eine ausgezeichnete Fehlerabdeckung, was es zu einer idealen Wahl für Forschungs- und Produktionszwecke macht.