Gebraucht KLA / TENCOR / ICOS CI-T130 #293616257 zu verkaufen

KLA/TENCOR/ICOS CI-T130 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die höchste Genauigkeit und Präzision für die Qualitätskontrolle von Masken und Wafern bietet. Dieses System verwendet die fortschrittliche OPC-Technologie (Optical Proximity Correction), um Fehler an Masken zu untersuchen und zu erkennen. KLA CI-T130 verwendet eine Opto-Mechanical Pattern Overlay (OMPO) -Technik, um hochauflösende Bilder von Maskenmustern zu erstellen. Dieser Prozess erkennt genau mehrere Arten von Maskenfehlern wie Linienbreiten, Öffnungen, kurze Hosen, Brüche und andere Unregelmäßigkeiten. Das Gerät verwendet hochpräzise Linsen, XY-Stufen und Kantenerkennung, um die Bilder zu erfassen. Diese Bilder werden dann von der OPC-Software weiterverarbeitet, die es der Maschine ermöglicht, das ursprüngliche Design und den hergestellten Wafer genau zu messen und zu vergleichen. Darüber hinaus bietet ICOS CI-T130 auch spezielle Möglichkeiten, um Partikel zu erkennen, die während der Herstellung von Wafern in den Prozess eingebracht wurden. Das Teilchendetektormodul nutzt die automatisierte Dunkelfeldmikroskopie und eine leistungsstarke elektrostatische Bildgebungstechnik, um Partikel, die während des Prozesses schnell dispergiert werden, genau zu identifizieren und zu zählen. Das Tool bietet auch erweiterte analytische Möglichkeiten, um die Dickenvariationen von Filmen auf der Waferoberfläche zu erkennen. Dies wird durch den Einsatz hochauflösender Oberflächenhöhenmesstechniken wie Strukturierte Lichtinterferometrie erreicht. Mit dieser Technologie können CI-T130 Oberflächenhöhenvariationen mit Sub-Nanometer-Genauigkeit messen. Darüber hinaus umfasst das Asset ein Direct Bright Field Photon Module (DBPM), das subsichtbare Fehler an Masken schneller und genauer als alle anderen Technologien erkennen kann. Das DBPM-Verfahren ermöglicht es dem Modell, das Vorhandensein von Stiften, Fehlern, Rissen und Verschmutzungen mit größerer Genauigkeit zu erkennen, als es sonst möglich wäre. TENCOR CI-T130 umfasst auch eine sehr vielseitige Automatisierungssuite, mit der Benutzer automatische Routinen erstellen und anpassen können, um Masken- und Waferdefekte zu analysieren. Die Automatisierungssuite bietet Flexibilität, sodass Benutzer festlegen können, welche Ebenen der Struktur überprüft werden und welche Arten von Analysen auf jeder Ebene durchgeführt werden. KLA/TENCOR/ICOS CI-T130 ist eine leistungsstarke und funktionsreiche Masken- und Waferinspektionsanlage, die den strengen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Mit seiner fortschrittlichen OPC-Technologie, genauen Oberflächenhöhenmessungen und einer vielseitigen Automatisierungssuite bietet KLA CI-T130 eine umfassende Inspektionslösung für die Qualitätskontrolle von Masken und Wafern.