Gebraucht KLA / TENCOR / ICOS WI-2000 #293597008 zu verkaufen

KLA/TENCOR/ICOS WI-2000 ist eine fortschrittliche Maske und Wafer Inspektion Ausrüstung entwickelt, um Ertrag und Qualität der komplexen IC-Fertigung zu verbessern. Das System ermöglicht eine zerstörungsfreie Untersuchung von Halbleiterscheiben auf Defekte sowohl bei der Herstellung als auch nach der Geräteherstellung. KLA WI-2000 besteht aus mechanischen und elektronischen Komponenten, die eine umfassende Bildanalyse der Wafer ermöglichen. Die Plattform ist in der Lage, optische Bildgebung und Streuung, Fehlerklassifizierung, Parameterabbildung und elektrische Prüfung. Das Gerät nutzt die neueste intelligente Mikrokamera-Technologie, die in der Lage ist, mehrere Bildfelder mit hoher Geschwindigkeit zu inspizieren und dabei zwischen den verschiedenen Arten und Größen von Defekten zu unterscheiden. ICOS WI-2000 verwendet außerdem eine automatisierte Wafer-Handling-Maschine und Vakuum-Handling-Technologie, um sicherzustellen, dass die Wafer ihre Integrität während des gesamten Inspektionsprozesses behalten. Die Wafer-Produkte werden auch durch eine breite Palette von maßgeschneiderten In-Line-Messtechnik-Tools unterstützt, die Design-Regelüberprüfung und kritische Fehlerüberprüfungsfunktionen bieten. Um sicherzustellen, dass das Tool in der Lage ist, potenzielle Ungenauigkeiten im Wafer-Design oder Herstellungsprozess zu erkennen, nutzt TENCOR WI-2000 ein High-End-Bildverarbeitungsmaterial mit fortschrittlicher Software und spezialisierter Hardware. Dies hilft, Fehlalarme zu minimieren und ungewöhnliche Eigenschaften schnell zu identifizieren, die zu Ertrags- und Gerätesicherheitsproblemen führen können. Das Modell verfügt auch über Funktionen, um Deep Learning und Algorithmen der künstlichen Intelligenz zu unterstützen, mit dem Ziel, den Fehlererkennungsprozess zu automatisieren und dynamische Korrekturen von häufig verfehlten Defekten zu ermöglichen. Dies trägt dazu bei, die Erträge zu verbessern und die Markteinführungszeit zu reduzieren. WI-2000 ist so konzipiert, dass es benutzerfreundlich und einfach zu bedienen ist, so dass es für Bediener aller Ebenen, vom Einsteiger bis zum Experten, geeignet ist. Die Geräte entsprechen auch den Industriestandards wie IEEE 2161 und AEC Q100 und werden auf MIL-PRF-38535 Anforderungen validiert. Zusammenfassend ist KLA/TENCOR/ICOS WI-2000 ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das eine genaue und zuverlässige Fehlererkennung bietet und gleichzeitig die Möglichkeit bietet, den Prozess zu automatisieren und die Markteinführungszeit zu reduzieren. Das Gerät bietet eine breite Palette von Bildverarbeitungs- und Automatisierungsfunktionen und eignet sich somit für eine Reihe von Anforderungen an die Waferinspektion.