Gebraucht KLA / TENCOR / ICOS WI-2000 #293639004 zu verkaufen

KLA/TENCOR/ICOS WI-2000 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind ein innovatives Werkzeug der Halbleiterindustrie zur Erkennung von Nanometer-Skalendefekten in lithographischen Masken. Es ist in der Lage, Defekte bis zu einer Größe von 0,39 µm mit einer Genauigkeit von 0,1 µm zu erkennen und gleichzeitig Maskenanomalien und Substrattopologie zu finden. Darüber hinaus beseitigt die automatische Funktionserkennung der KLA WI-2000 die manuelle Inspektion und präzise Fehlerisolierung, was zu einer hohen Prozesseffizienz führt. ICOS WI-2000 besteht aus mehreren Modulen. Sein erstes Modul ist ein optisches System, das hochauflösende Bilder über große Teile des Wafers liefern soll. Dieses Gerät verwendet einen 21-Zoll-Monitor, um SEM-Bilder anzuzeigen. Es besteht aus einem Mikroskop, einem patentierten Dual Scan Imaging Sensor und einer CCD-Bildaufnahmekamera. Darüber hinaus wurde es entwickelt, um Vibrationen zu reduzieren und Verzerrungen zu beseitigen, wodurch extrem genaue Bilder an die integrierte Steuerungsmaschine geliefert werden. Das integrierte Steuerungstool verarbeitet dann die Bilder zur Defekt- und Fehlererkennung. Es implementiert mehrere Algorithmen, wie Maximum Entropy Method, Gray Level Correlation, Edge Histogram und Region Growing, um Nanometer-Skalendefekte genau und schnell zu erkennen. Darüber hinaus ist das Asset in der Lage, komplexe Merkmale wie Linienbreite, Überbrückung, Oberflächentopologie, Kantenrauheit und dazwischenliegendes Material zu identifizieren. Darüber hinaus verfügt WI-2000 über mehrere Konnektivitätslösungen und ist in der Lage, mit CAD und CIM-Systemen zu arbeiten. Dies erhöht die Effizienz und Produktivität des Modells weiter, indem der Datenaustausch mit anderen Systemen gestrafft wird. Es hat auch ein ultra-responsive Human-Interface, so dass Steuerung, Überwachung und grundlegende Verfahren schnell und einfach. Zusammenfassend ist KLA/TENKORTENCOR WI-2000 eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die entwickelt wurde, um Submikron-Defekte in lithographischen Masken mit Präzision, Genauigkeit und hervorragender Geschwindigkeit zu erkennen. Mehrere Module, leistungsstarke Konnektivitätslösungen und eine benutzerfreundliche Schnittstelle verbessern die Leistung des Systems und machen es zu einem wertvollen Inspektionswerkzeug für die Halbleiterindustrie.