Gebraucht KLA / TENCOR / ICOS WI-2250 #293650418 zu verkaufen

KLA/TENCOR/ICOS WI-2250 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein präzises bildgebendes System, das in Anwendungen wie Mikroelektronik und Datenspeicherung eingesetzt wird. Es liefert ein hochauflösendes Bild der Oberfläche von Substraten mit einem Sichtfeld bis 400 mm. Es ermöglicht eine detaillierte Inspektion von Masken- und Waferoberflächenmerkmalen aufgrund seiner ausgeklügelten Technologie wie Mustererkennung, automatische Schnitt und fortschrittliche Algorithmen. Zu den wichtigsten Funktionen der KLA WI-2250 gehören ein 8-Zoll-Bildbereich, ein 4-Zoll-Betrachtungsbereich und eine hochauflösende Zoomfunktion von bis zu 16x. Seine Abbildungsgeschwindigkeit und die Zeit bis zum ersten Bild können basierend auf der spezifischen Anwendung angepasst werden. Das Gerät verfügt über eine hochauflösende Auflösung für die mehrdimensionale Waferinspektion sowie für die Maskeninspektion. Die integrierten Tool zur Bildverbesserung bieten hervorragende Bildschärfe und Kontrast sowie eine Reihe von Bilddarstellungsoptionen. ICOS WI-2250 bietet auch fortgeschrittene bildgebende Algorithmen, die es dem Benutzer ermöglichen, auch die geringsten Mängel oder Defekte auf Masken- und Waferoberflächen zu ermitteln. Es ist kompatibel mit Standardmasken, die in Maskierungsanwendungen verwendet werden, und kompatible Wafermaterialien sind Silizium, Halbleiter, Photomaske und Quarz. Die Mask & Wafer Inspektionsmaschine ist mit einer Vakuumkammer mit elektronischer Saugsteuerung und programmierbarer Selbstabschaltung ausgestattet. Dadurch wird ein ordnungsgemäßer verschlossener Kontakt gewährleistet und ohne Beschädigung der Maske oder des Wafers gehalten. Das Vakuum hilft auch, Wärme und Druck entlang der Oberfläche zu übertragen, was hilft, den Verschleiß auf der Maske oder der Waferoberfläche zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt WI-2250 über ein P- und DR-Erkennungstool, das bei der Maximierung der Auflösung zur Erkennung kleiner Fehler hilft. Das PDR-Asset ermöglicht es Benutzern, jede Partikelbewegung auf der Oberfläche zu überwachen. Das Modell hat auch die Fähigkeit, kontaminierte Oberflächen zu erkennen. Insgesamt ist TENCOR WI-2250 von KLA eine leistungsstarke Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine hervorragende Bildauflösung und verschiedene Bildverarbeitungswerkzeuge bietet. Die integrierte bildgebende Technologie, die präzise Ausrichtung zwischen Bild und Maske und der direkte Vakuumdruck tragen zu einer präzisen und zuverlässigen Inspektion bei. Die fortschrittlichen Bildgebungs- und Erkennungsalgorithmen sorgen auch dafür, dass selbst die kleinsten Defekte oder Mängel schnell erkannt und behoben werden.