Gebraucht KLA / TENCOR ILM 2367 #9024433 zu verkaufen

KLA/TENCOR ILM 2367 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die es Halbleiterherstellern ermöglicht, Produktionsprozesse zu beschleunigen und die Erträge zu verbessern. Das System kombiniert fokussierte Ionenstrahllithographie (FIB) mit fortschrittlicher bildgebender Technologie, um Defekte und strukturelle Integrität in jeder Maske und Wafer zu erkennen, die während des Produktionsprozesses erzeugt wurden. Es wird durch eine patentierte OptiFIBER™ bildgebende Technologie angetrieben, die mehrere optische Signalkanäle verwendet, um genaue 3D-Bilder der gescannten Objekte zu erhalten. KLA ILM 2367 nutzt eine offene, skalierbare Architektur, die für mehrere Konfigurationen geeignet ist, von einer einzigen Wafer-fokussierten FIB-Station bis hin zu einer vollständig kundenspezifischen Einheit mit 12 Wafer-Stationen und zwei integrierten FIB-Systemen. Dadurch kann die Maschine bis zu 1200 Masken- und Wafer-Proben in weniger als 10 Minuten scannen. Auch bei der Entwicklung des Musterpositionierungsmechanismus des Werkzeugs, der genaue und wiederholbare Probenpositionen ermöglicht, wurde viel Liebe zum Detail gegeben. Darüber hinaus ermöglicht ein integriertes FIB-Asset die lokale Bildgebung mit höheren Vergrößerungen und längeren Beobachtungszeiten an verschiedenen Orten derselben Probe. TENCOR ILM 2367 kommt auch mit einer benutzerfreundlichen Visualisierungsschnittstelle zur Steuerung der Bildgebung und der Probenmanipulation von jedem PC oder Laptop. Dies ermöglicht einen einfachen Zugriff auf eine Vielzahl von Bildqualität und Positionierungsparametern, wodurch der Bediener schnell Parameter anpassen und einstellen kann, um hervorragende Ergebnisse zu erzielen. In den Untersuchungsergebnissen ist ILM 2367 in der Lage, Fehlertypen extrem schnell zu erkennen und zu klassifizieren. Es ist in der Lage, Partikel, Adhäsion und andere Verunreinigungen bis zu den kleinsten Ebenen zu detektieren. Es verwendet auch einen 3D-Bildgebungsmechanismus, um genaue Messungen jeder gekrümmten Oberfläche und Strukturen vorzunehmen. Darüber hinaus kann das Modell Sporen, Topographie-Variationen, Gateline-Widerstand und andere mikrostrukturelle Merkmale erkennen. KLA/TENCOR ILM 2367 verfügt zudem über mehrere Hardware- und Softwaremodule für höhere Produktivität und Zuverlässigkeit. Dazu gehören fortgeschrittene Datenerfassungssysteme, Nanopositionierungsstufen und ein Schnellerkennungsmodul zur schnellen Fehleranalyse. Zusätzlich gibt es einen leistungsstarken Nachbearbeitungsalgorithmus für Bildsegmentierung, Fehlererkennung und Klassifizierung. Schließlich können die Geräte in Ihren bevorzugten Host-Tools für die einfache Integration in bestehende Produktionslinien arbeiten. Insgesamt ist KLA ILM 2367 ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das eine zuverlässige und genaue Möglichkeit bietet, verschiedene Defekte bis in den Sub-Micron-Maßstab zu erkennen und zu klassifizieren. Es verfügt über eine schnelle und präzise Scan-Geschwindigkeit, hervorragende Bildgebungsfunktionen sowie leistungsstarke Hard- und Softwaremodule für mehr Produktivität und Effizienz. Als solches wird diese Einheit helfen, höhere Erträge und reduzierte Abfallstoffe in der Halbleiterproduktion zu gewährleisten.