Gebraucht KLA / TENCOR / LEICA / VISTEC MIS 200 #9240451 zu verkaufen
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ID: 9240451
Wafergröße: 8"
Inspection system, 8"
Handler and motor stage
No scope
No Hard Disk Drive (HDD).
LEICA/VISTEC MIS 200 ist eine hochmoderne Ausrüstung für die Masken- und Waferinspektion. Dieses System verbessert Technologien in der Lithographie und Optik verwendet, um die Produktionsausbeute von integrierten Schaltungen und Halbleiterdesigns durch die Erkennung von Defekten und Anomalien während der Herstellung, Montage und Tests zu erhöhen. LEICA MIS 200 verwendet eine patentierte gleichzeitige zweidimensionale, vordere und hintere Bildaufnahmeeinheit, um die Fehler zu erkennen, zu identifizieren und zu quantifizieren. Dazu gehört, beide Seiten eines Wafers gleichzeitig abzutasten und dann die Daten zu kombinieren. Hochleistungs-Zoom-Objektive sind in das Design integriert und können bis zu x70 bzw. x30 vergrößern, so dass auch sehr kleine und empfindliche Masken- oder Leadframe-Defekte erkannt werden können. Die Messfähigkeit der Vorrichtung macht es besonders nützlich für die Auswertung von Düsen- oder Zwischen-Düsen-Anomalien. Die Maschine wurde entwickelt, um einen Workflow mit mehreren Aufgaben zu erleichtern. Auf diese Weise kann der Anwender mehrere Prozesse verwalten, wie z.B. Fehler- und Rubelinspektion, die zur Zeit- und Aufwendungsreduzierung zu einem Job kombiniert werden können. Darüber hinaus ermöglicht die Skalierbarkeit des Geräts ein Upgrade, das dem Produktionsdurchsatz entspricht, der für die zunehmende Komplexität des Designs erforderlich ist. Die Software für VISTEC MIS 200 wird vom Hersteller geliefert und ist für eine einfache Bildbearbeitung und erweiterte Analyse konzipiert. Es ist mit Datenformaten konfiguriert, um eine einfache Dateifreigabe über mehrere Produktionsstandorte hinweg zu ermöglichen und die Kommunikation und Konsistenz zwischen den Produktionsteams zu unterstützen. Eine intuitive Benutzeroberfläche bietet alle Werkzeuge, um Masken- und Waferdefekte effektiv zu überprüfen und zu analysieren. MIS 200 eignet sich zur präzisen Inspektion und Analyse von Masken- und Waferdefekten in einer Vielzahl von Branchen. Es ist eine ideale Wahl für jede Produktion, die genaue und genaue Inspektion und Analyse von Masken- und Waferdefekten erfordert. LEICA/VISTEC MIS 200 trägt zur Verbesserung der Automatisierung und Produktivität bei und sorgt für einen höheren Ertrag und eine höhere Qualität der Produkte.
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