Gebraucht KLA / TENCOR LWS 3000 CFI #293608931 zu verkaufen

KLA/TENCOR LWS 3000 CFI ist eine computergestützte Masken- und Waferinspektionsanlage, die für den Einsatz in einer Vielzahl von Halbleiterproduktionsprozessen entwickelt wurde. Das System besteht aus einem Hauptschauwerkzeug, einer schnelllaufenden, hochauflösenden Bildaufbereitungseinheit, einer Hochleistungsbildaufbereitung und Bewegungskontrollsubsystem, einem einheitlichen Visionssubsystem und einer Reihe der Anzeige, Analyse und Metrologiewerkzeuge. Die Hauptfunktion von KLA LWS 3000 CFI ist die Inspektion von feinen und ultrafeinen Auflösungsbildern sowohl von undurchsichtigen als auch transparenten Objekten wie Masken, Wafern und anderen Photomasken. Die Maschine hat die Fähigkeit, extrem kleine Objekte und Merkmale mit Submikrongenauigkeit zu messen und zu vergleichen. Dies ermöglicht extrem hohe Fehlererkennung, Fehlerauflösung und Durchsatz. Das Hochgeschwindigkeits-Abbildungswerkzeug verwendet mehrkanalige Laserinterferometrie und elektrisch detektierte mehrwellige Phase, Polarisation und chromatische Kontrastabbildung. Dies bietet Echtzeit-3D, tomographische und interferometrische Messungen von Merkmalshöhe, Breite, Tiefe, Neigung und z-Bahn. Das Teilsystem Bewegungssteuerung bietet die Fähigkeit, kleine Bewegungen in der Reihenfolge von Bruchteilen eines Mikrons zu verfolgen und zu korrigieren. Dies sorgt für überlegene Ergebnisse in schwierigen Defekten wie Lichtsättigung und Linienbrückendifferentiale. Das integrierte Vision Subsystem kombiniert digitale Bildgebung mit ausgeklügelten Algorithmen, um Fehlerstandortgenauigkeit und zuverlässige Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Eine Reihe von proprietären Software-Tools bietet eine Vielzahl von Funktionen, einschließlich Signalverarbeitung, automatische Inspektion und Klassifizierung, Fehlermarkierung, Kartenerweiterung, Bildsuche, Nachbearbeitung, Metriken und Berichtsgenerierung. Dies verbessert die bildgebenden und messtechnischen Fähigkeiten von TENCOR LWS 3000 CFI erheblich. LWS 3000 CFI ist ein fortschrittliches Werkzeug für Halbleiterproduktionsprozesse und liefert überlegene Ergebnisse für kleine Losmengen und hohe Serienbedürfnisse. Die Anlage eignet sich gut für Masken- und Waferinspektionen mit extremer Genauigkeit, Fehlerauflösung und Durchsatz.