Gebraucht KLA / TENCOR MPV CD2 AMC #9043963 zu verkaufen

KLA / TENCOR MPV CD2 AMC ist eine modernste Maske und Oblatenschauausrüstung, die innovative Maßalgorithmen und Hochleistungsbildanschaffungstechnologien verbindet, um genaue Inspektion und Analyse der Halbleitermaske und Oblaten zu bieten. Es wurde entwickelt, um Fehler an Masken und im Herstellungsprozess von Halbleiterbauelementen zu erkennen und zu analysieren, was eine zuverlässigere und effizientere Produktion ermöglicht. Das System besteht aus einer Hauptsteuerkonsole und einem hochauflösenden digitalen Mikroskop, die beide mit einer leistungsstarken und zuverlässigen PC-basierten Hardware verbunden sind. Dies ermöglicht eine schnelle Verarbeitung und Messung von Masken- und Waferbildern. Das Mikroskop beinhaltet eine 12-Megapixel, 4x digitale Zoomkamera, die optimal für die Inspektion kleiner Funktionen an Masken und Wafern ausgelegt ist. Darüber hinaus umfasst das Gerät mehrere spezialisierte Softwareprogramme, die eine einfache Auswahl des am besten geeigneten Werkzeugs für verschiedene Inspektionsaufgaben ermöglichen. Das Hauptmodul von KLA MPV CD2 AMC ist in der Lage, 3-dimensionale Daten von bis zu 8k x 8k Auflösung zu sammeln, was eine beispiellose Leistung bei der Inspektion von Wafern und Masken ermöglicht. Es schließt eine Hochleistungsbildanschaffungsmaschine ein, Hochleistungsabtastung von Oblaten während der Inspektion berücksichtigend. Das Tool verfügt auch über spezialisierte Algorithmen, die eine schnelle Erkennung von Defekten bis zu 0,1 Mikron ermöglichen. Darüber hinaus verfügt es über anwenderwählbare Algorithmen, mit denen Daten mit verbesserter Präzision und Genauigkeit analysiert werden können. Zum Asset gehört auch eine leistungsfähige Messsoftware, die es Anwendern ermöglicht, Größe und Form von Strukturen, einschließlich kritischer Dimensionen, sowie Oberflächenkomplexitäten schnell zu bewerten. Diese Software kann verwendet werden, um sehr kleine Mängel zu erkennen, was den Herstellern ein zuverlässigeres Modell für die Inspektion empfindlicher Masken- und Wafer-Herstellungsprozesse gibt. TENCOR MPV CD2 AMC ist eine wirklich zuverlässige und innovative Ausrüstung für die Masken- und Waferinspektion. Die Kombination aus leistungsstarker Hardware und innovativen Algorithmen schafft ein beeindruckendes System, das kleine Defekte in großflächigen Wafer- und Maskenherstellungsprozessen erkennt. Seine Hochleistungsbildanschaffungsfähigkeiten berücksichtigen genaue und effiziente Inspektion, es ein leistungsstarkes Werkzeug für Hersteller von komplizierten und kleinen Halbleitergeräten machend.