Gebraucht KLA / TENCOR MRW 200 #9083812 zu verkaufen
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KLA/TENCOR MRW 200 ist eine Maske & Wafer Inspektion Ausrüstung mit fortschrittlichen Funktionen, die überlegene Leistung für Maske und Wafer Inspektion Anwendungen bieten. Das System bietet modernste Optik- und Hardwarekonfiguration und eine schnelle, genaue und zuverlässige Fehlererkennung. Es ist in der Lage, Wafer Defekt Proben bei Vollfarbe hohe Auflösung bis zu 5 Mikrometer zu überprüfen, und ermöglicht schnellere, genauere Ergebnisse in einem breiten Spektrum von Inspektionsaufgaben. Das Gerät ist mit einer fortschrittlichen etikettenfreien Erkennungsmethode ausgestattet, die Fehler genau identifiziert, die für herkömmliche Inspektionsmikroskope nicht sichtbar sind. Die hochauflösenden Bildaufnahme- und Analysefunktionen der Maschine ermöglichen es dem Bediener, Fehler auf der Waferoberfläche besser zu kategorisieren. KLA MRW 200 ist ein integriertes Werkzeug, das eine programmierbare, räumlich erweiterte Wafer-Inspektionskamera, hochauflösende Laser-Autofokus-Anlage, Hochgeschwindigkeits-Scanmotoren und eine schnelle, hochgenaue Die-to-Die-Bildaufnahme und Inspektionsmaschine kombiniert. Diese Kombination ermöglicht eine äußerst genaue Fehlererkennung und -klassifizierung. Die Optik des Modells wird für die höhere Stabilität und Leistung mit einer hochauflösenden, schnelllaufenden Bildfestnahmenfähigkeit entworfen. Der Scanner ist mit einem DMD-Lichtmotor ausgestattet, der einen einstellbaren Wellenlängenbereich für eine bessere Beleuchtung und Bildgebung bietet, während die separaten winkelförmigen und parallelen Lichtquellen eine Reihe von Beleuchtungsoptionen für eine optimale Fehlererkennung bieten. Die Hochgeschwindigkeitsmotoren, die das Gerät mit Strom versorgen, ermöglichen die gleichzeitige Teil- oder Vollfeldinspektion, was eine schnellere Fehlerinspektion großer Waferproben ermöglicht. Die Kamera ist mit einem Dual-Channel-CCD-System ausgestattet, das eine hervorragende Bildqualität und Auflösung ermöglicht. Darüber hinaus bietet das Gerät die Möglichkeit, eine flexible Bildanalyse, eine bildbasierte Klassifizierung von Defekten und eine vollflächige Fehlererkennung durchzuführen. TENCOR MRW 200 bietet auch mehrere verschiedene Betriebsarten, so dass Benutzer eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben schnell und einfach durchführen können. Dazu gehören Vollfeld-, Hochgeschwindigkeits-, Teilfeld- und relativ erweiterte Inspektionen, die es den Betreibern ermöglichen, die besten Einstellungen für ihren jeweiligen Zweck auszuwählen. Zusammenfassend ist MRW 200 eine leistungsstarke und vielseitige Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine, die eine hervorragende Leistung für eine Vielzahl von Anwendungen bietet. Seine fortschrittliche Optik und Hardwarekonfiguration ermöglichen eine genaue und zuverlässige Fehlererkennung, während sein robustes und programmierbares Design sicherstellt, dass Benutzer eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben schnell und genau ausführen können.
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