Gebraucht KLA / TENCOR / PROMETRIX 2138 XP #9004619 zu verkaufen

KLA/TENCOR/PROMETRIX 2138 XP ist eine hochwertige Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die anspruchsvollsten kritischen Anwendungen entwickelt wurde. Mit überlegener Optik, mechanischem Design und Elektronikdesign bietet es viel höheren Durchsatz, bessere Auflösung und umfassendere Waferanalyse. Dieses System wurde entwickelt, um die hohen Fertigungsanforderungen der Halbleiterindustrie zu erfüllen und ist eine ideale Lösung für die Inspektion der anspruchsvollsten Masken und mikroelektronischen Bauelemente. KLA 2138 XP verfügt über eine hybride optisch-mechanische Einheit, die sowohl eine detaillierte Partikelanalyse als auch eine schnelle Leistung ermöglicht. Die Optikmaschine besteht aus einem dichroitischen Spiegel, der Licht aus verschiedenen Richtungseingängen und Vollfilm- und Submikron-Bildgebungstechnologien überträgt und reflektiert. Der Spiegel ist in der Lage, Licht sowohl von der Vorder- als auch von der Rückseite des Wafers zu erfassen und ermöglicht genaue dreidimensionale Bilder von Defekten. Es zeigt auch die schwachen Fehler, so dass sie leicht in den Bildern zu identifizieren. Die mechanische Architektur von TENCOR 2138 XP wurde entwickelt, um große und kleine Bereiche schnell und präzise zu überprüfen. Seine hohe Durchsatzfähigkeit und seine ausgeklügelte Steuerung machen es gut geeignet für die volumenstarke Korrektur von kritischen Defekten an Masken und Schaltungen. Es hat eine hohe Empfindlichkeit, mit einer empfindlichen Fläche von bis zu 8,5 µm und einem erweiterten Bereich von bis zu 15 µm. Insgesamt kann es bis zu 1.000 Wafer pro Stunde inspizieren, was ihm einen bemerkenswerten Effizienzvorteil gegenüber anderen Systemen verschafft. Das Tool integriert auch die neuesten hochauflösenden Elektronenbildtechnologien, um selbst die kleinsten Fehler zu erkennen. Die Elektronenbildanlage integriert sich nahtlos in das optisch-mechanische Inspektionsmodell, um ein weites Sichtfeld, eine hohe Detektionsgenauigkeit und eine breite Palette hilfreicher analytischer Merkmale zu bieten. Insgesamt bietet 2138 XP hervorragende Masken- und Wafer-Inspektionsmöglichkeiten für die Halbleiterindustrie. Seine hochmodernen optischen, mechanischen und elektronischen Bildgebungstechnologien bieten Geschwindigkeit, Genauigkeit und Zuverlässigkeit und sind somit die perfekte Wahl für die Inspektion der komplexesten mikroelektronischen Geräte von heute.