Gebraucht KLA / TENCOR SCD-200 #9155471 zu verkaufen

KLA/TENCOR SCD-200 Masken- und Wafer-Inspektionsgeräte sind speziell auf die Anforderungen der anspruchsvollsten Ausfallanalyse und Produktionsanwendungen ausgelegt. Es kombiniert hohe Leistung, hohe Geschwindigkeit und hohe Genauigkeit mit der Flexibilität und Skalierbarkeit, die erforderlich ist, um Masken und Wafer auf Geräte-, Schaltungs- und Layoutebene zu charakterisieren. KLA SCD-200 Maskeninspektion und kritische Fehlererkennung Fähigkeiten basieren auf Quad-Luminanz-Bildgebung. Durch die Bereitstellung von vier separaten Kameraansichten kann eine außergewöhnliche Beleuchtung topologischer und kolorimetrischer Maskenfunktionen sowohl für Hellfeld- als auch für Dunkelfeldbeleuchtungstechniken erreicht werden. Dies ermöglicht eine genauere Auflösung, Erkennung und Charakterisierung von nahezu kritischen Defekten an Masken und Wafern. Das System bietet auch eine umfassende Suite an redundanten, halbautomatischen Prüfwerkzeugen. Durch die Kombination einer intuitiven Benutzeroberfläche mit fortschrittlicher Mustererkennungstechnologie und Fehlererkennungsalgorithmen können TENCOR SCD-200 auch kleinste Fehler schnell und genau erkennen. Die leistungsstarken Segmentierungs- und Etikettierungsfunktionen reduzieren die Entwicklungszeit und verbessern die Prüfgenauigkeit. Die Inspektionseinheit ist auch mit fortgeschrittenen bewährten Produktionsalgorithmen ausgestattet, die ausgefeilte Weichzeichnungs-, Kantenerkennungs- und Texturanalysetechniken verwenden. Diese sind darauf ausgelegt, das Signal-Rausch-Verhältnis jeder Maske oder jedes Wafers zu „erlernen“, was eine verbesserte Fehlererkennung und Charakterisierung ermöglicht, insbesondere für anspruchsvolle 3D-Schaltungsprofile. Die Maschine umfasst auch einen umfassenden Satz von Visualisierungs- und Analysefunktionen. Interaktive 3D-Ansichten können detaillierte Informationen über nahezu kritische Fehler bereitstellen, z. B. Überlagerungsverstöße, Widerstandsfehler bei Strömungsunregelmäßigkeiten, CD-Offsets (Critical Dimension) und Konstruktionsverfolgungsfehler. Erweiterte Visualisierungstools ermöglichen die umfassendste heute verfügbare Masken- und Waferanalyse. SCD-200 bietet auch eine Reihe von Umweltlösungen, darunter ein dreistufiges, geschlossenes Kühlwerkzeug. Dies trägt dazu bei, dass das Asset in einem konsistenten Temperaturbereich arbeitet, um mehr Stabilität und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus ist das Inspektionsmodell mit gängigen SEMI-S2 konformen Datenbanken kompatibel, so dass Fehlerberichte archiviert und später einfach zur weiteren Überprüfung abgerufen werden können. Zusammenfassend bietet KLA/TENCOR SCD-200 Masken- und Waferinspektionsgeräte einen umfassenden Satz von Inspektions-, Analyse- und Umweltmerkmalen. Es ist in der Lage, höchste Genauigkeit zu bieten, was eine schnellere Time-to-Market und bessere Produkterträge ermöglicht.