Gebraucht KLA / TENCOR SL303UV #293751660 zu verkaufen

KLA / TENCOR SL303UV
ID: 293751660
Reticle inspection system Pixel size: P150, P250, P375.
KLA/TENCOR SL303UV Mask and Wafer Inspection Equipment ist eine hochwertige Prozesssteuerungstechnologie, die die Entwicklung fehlerfreier Produkte aus großvolumigen Waferprozessoperationen ermöglicht. Unter Verwendung der neuesten optischen, Bewegungs- und Bildgebungstechnologie bietet UCK SL303UV ein zuverlässiges Mittel zur Inspektion von Wafern und Masken auf elektrooptische, thermische, mechanische, chemische und andere Faktoren, die die Produktqualität beeinflussen können. Die optische Inspektion ist das Herzstück des TENCOR SL303UV Systems, das sowohl parallele als auch automatische Kalibrierungsfunktionen bietet. Sein proprietärer Scankopf verwendet schnelle Scanalgorithmen, um sowohl Signal als auch Rauschen aus zwei separaten Bildgebungsbereichen für eine schnellere Datenerfassung zu erfassen. Seine Wafer-Bilderfassungseinheit bietet sowohl automatisches Rasterscannen als auch visuelle Maskeninspektion, während seine proprietäre LED-Beleuchtungsmaschine eine breite Palette von Wellenlängenspektren und variable Intensitätssteuerung für die Inspektion von Bild- und Merkmalserkennungsaufgaben bietet. SL303UV umfasst auch Tools wie einen integrierten Vision-Prozessor, mit dem Benutzer schnelle Entscheidungen treffen und Prozesse automatisieren können. Es enthält eine Reihe von automatischen Kalibrierungsalgorithmen, einschließlich 2D-Ausrichtung, 3D-Quantifizierung, Farbanalyse und Schattierungskorrektur für verbesserte Analyse und Konsistenz. Das Tool hilft auch, Fehlalarme durch erweiterte Ausreißererkennung, Aberrationsmessung und ein automatisiertes Fehlerbewertungsprogramm zu reduzieren. Seine Wafer-Inspektionsmöglichkeiten umfassen die Inspektion des mechanischen Profils des Wafers, die thermische und Spannungsanalyse, die Mustererkennung und die Morphologieanalyse. Zu den Möglichkeiten der Maskeninspektion gehören hochvergrößerte Bildgebung, optische kritische Dimensionen, Luftbildanalyse und ein exakter Bildvergleich für die mehrschichtige Fehlererkennung. Die Anlage unterstützt auch die Prüfung von Defekten, die durch dielektrische Flecken, Partikel oder Kratzer verursacht werden, mit integrierter Bewegung und Optik, die eine genaue Positionierung der Wafer für eine verbesserte Wiederholbarkeit und einen verbesserten Durchsatz gewährleistet. Zur Überwachung und Steuerung verwendet KLA/TENCOR SL303UV einen 16-Kanal-Controller, der Treiber für x/y/z Bewegungssteuerung und -einstellung, Motorcodierer, Modelllichtquellen und LED-Treiber umfasst. Die Steuerung umfasst auch eine Reihe von numerischen Analysefunktionen zur Interpretation von Ergebnissen und Korrekturen. Die Datenverwaltungsfunktionen des Geräts ermöglichen es Benutzern, bequem auf Inspektionsergebnisse zuzugreifen, diese zu speichern und zu analysieren, während die Funktionen zur Berichtsgenerierung es Anwendern ermöglichen, professionell aussehende Berichte zur weiteren Auswertung zu erstellen. Durch die Nutzung der fortschrittlichen Hard- und Software-Tools von KLA SL303UV können Betreiber Fehler in ihren Wafer- und Maskenprozessen schnell erkennen und beheben.
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