Gebraucht KLA / TENCOR SL515 #9197021 zu verkaufen

KLA/TENCOR SL515 Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein Hochdurchsatz-Fehlerinspektionssystem, das mit einer Vielzahl von Substraten umgehen kann. Es kann winzige Defekte in einer Vielzahl von Halbleiterprozessen wie Photomasken, Wafer, Maskenrohlinge, abgeschiedene Filme und entwickelte Resistlinien effektiv erkennen. Das Gerät verfügt über ein 200mm bis 300mm Sichtfeld und verwendet drei bildgebende Technologien, darunter hochauflösende optische, Fluoreszenz- und Röntgenbilder. KLA SL515 nutzt sowohl Hellfeld als auch schräge Beleuchtung, was die Fehlererkennung verbessert. Sein Entwicklungsmodus bietet eine Kantenerkennungsfunktion zur Erkennung von Musterkanten sowie zur Maskenausrichtung und Fokussteuerung. Die Maschine enthält sowohl parametrische als auch nicht parametrische Analysewerkzeuge zur Überprüfung von Daten, die aus den geprüften Masken und Wafern gesammelt wurden. Es bietet auch Reporting und Datenspeicherfunktionen, die eine sichere Kommunikation von Qualitätsdaten zwischen dem Tool und anderen Engineering und Produktionsstandorten gewährleisten. Das Asset liefert genaue Ergebnisse in einem Bruchteil der Zeit, die es in der Regel andere ähnlich große Systeme benötigt. Es kann Fehler bis zu 20 Nanometer erkennen und messen und Merkmale im Bereich von 350 Nanometern erkennen, was die für die Produktion festgelegten Standards übersteigt. Es beinhaltet Tools zur Fehlerklassifizierung, Korrelationsverfolgung, Fehlererkennung, Fehlerverfolgung über mehrere Wafer, sorgfältige Funktionsanpassungsalgorithmen und Integration mit 3rdparty-Softwaresystemen. Im Mittelpunkt des Modells steht die patentierte Bildoptimierungstechnologie, die die besten Ausstattungsparameter für jede Inspektionsaufgabe ermittelt. Auf diese Weise kann das System Fehler und Merkmale genau erkennen und klassifizieren, indem es die für den Inspektionsprozess wichtigsten Merkmale identifiziert. Die ausgeklügelten Algorithmen des Geräts verwenden diese Informationen dann, um die Bilderfassungseinstellungen zu optimieren, um die Fehler- und Funktionsdifferenzierungsmöglichkeiten der Maschine zu maximieren. Darüber hinaus ist TENCOR SL 515 durch seine umfassende Bibliothek bestehender APIs und Schnittstellen einfach in bestehende Infrastruktur-, Software- und Prozesssteuerungstools zu integrieren. Das Werkzeug verfügt über eine schnelle Reaktionszeit und sorgt für eine enge Prozesssteuerung, was es zu einer idealen Option für die Herstellung von hochvolumigen Halbleitern macht. KLA/TENCOR SL 515 Mask & Wafer Inspection Asset ist eine zuverlässige und leistungsstarke Lösung für die Erkennung von Defekten auf Schutz- und Waferebene.