Gebraucht KLA / TENCOR SP1-DLS #9255089 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-DLS ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die den hohen Anforderungen moderner Halbleiteranlagen gerecht wird. Das System prüft eine Vielzahl von Wafermustern und liefert präzise Ergebnisse mit außergewöhnlich niedrigen Fehlalarmraten. Die KLA SP1 DLS verwendet proprietäre Embedded-Deep-Learning-Algorithmen und erreicht beispiellose Genauigkeiten bei der Fehlerüberprüfung und -klassifizierung. Die Einheit arbeitet, indem sie die Waferoberfläche mit einem Mikroskop abbildet und dann die Ergebnisse durch spezialisierte Software analysiert. Es kann dann Fehler in den Mustern identifizieren, gekennzeichnet und gruppiert nach Größe und Art. Die Maschine kann auch isolierte und gemusterte Fehler identifizieren und gleichzeitig zwischen Linienbreite, Linienbreite/Kantenschärfe und Linienkantenrauhigkeit unterscheiden. TENCOR SP 1-DLS nutzt eine hochflexible und zuverlässige Waferaufbereitungsplattform, mit der Ausrüster den Wafer schnell und einfach für die Inspektion vorbereiten können. Diese Plattform ist robust genug, um wiederholten Reinigungsverfahren standzuhalten, und wurde entwickelt, um die Produktionsraten zu maximieren und die Anzahl der Teile pro Wafer zu reduzieren. Das Tool verfügt über eine automatisierte Dateiübertragungs- und Analysesteuerungsschnittstelle, die es den Betreibern ermöglicht, Informationen schnell und einfach in der gesamten Anlage sowie in vor- und nachgelagerte Systeme zu übertragen. Diese Benutzeroberfläche bietet auch eine intuitive Benutzeroberfläche, so dass es einfach ist, das Asset von einem entfernten Standort aus zu steuern. Die KLA- SP1-DLS beinhaltet erweiterte Überprüfungsfunktionen, die es den Betreibern ermöglichen, die Ergebnisse schnell und einfach zu überprüfen. Diese Funktionalität wird durch TENCOR eingebettete Deep-Learning-Algorithmen gesichert, die subtile Musteränderungen genau identifizieren. Darüber hinaus verfolgt das Modell Werkzeugmetriken und Leistung, die es dem Bediener ermöglicht, schnell und einfach die Ausrüstungsleistung zu diagnostizieren und zu beheben. Insgesamt ist TENCOR SP1 DLS ein leistungsfähiges, zuverlässiges und vielseitiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Die fortschrittlichen Embedded Deep Learning-Algorithmen bieten überlegene Genauigkeit bei der Fehlerüberprüfung und -klassifizierung, während die automatisierte Dateiübertragung und -analyse sowie die intuitive Benutzeroberfläche die Bedienung des Geräts zu einem Kinderspiel machen. Die robuste Wafer-Vorbereitungsplattform und die Überprüfungsfunktionen helfen, die Anzahl der Teile pro Wafer zu reduzieren, und die Werkzeugzählfunktion bietet den Betreibern wertvolle Leistungsinformationen. Zusammen machen diese Merkmale SP 1-DLS zu einer idealen Wahl für moderne Halbleiteranlagen.