Gebraucht KLA / TENCOR SP1-DLS #9257954 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-DLS ist eine fortschrittliche Masken- und Waferinspektionsanlage, die zur Überprüfung der Genauigkeit von Photomasken bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Photomasken werden verwendet, um Bauelemente auf Halbleiterchips zu erstellen, die elektronische Bauelemente beherbergen. Die Qualität der Masken ist für die Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente entscheidend. Das KLA SP1 DLS-System verfügt über mehrere ausgefeilte Technologien, um eine zuverlässige und genaue Inspektion von Photomasken zu gewährleisten und Prozessänderungen und Fehlerdiagnosen zu überwachen. Zu den Kernmerkmalen des Geräts gehören eine hochauflösende Mikrospiegel-basierte Bildverarbeitungsmaschine, eine progressive digitale Farbkamera, erweiterte Bildverarbeitungsalgorithmen und ein integriertes Fehlerinspektionswerkzeug. Das hochauflösende mikrospiegelbasierte bildgebende Element besteht aus einem Paar Digitalkameras in Kombination mit einer schnellen Scanbeleuchtung. Die progressive Scan-Digitalfarbkamera erfasst ein Vollfarbbild in einem einzigen Integrationszeitraum, während die schnelle Scan-Beleuchtung verwendet wird, um verschiedene Hintergrund- und Oberflächenartefakte zu entfernen. TENCOR SP 1-DLS bietet auch fortschrittliche Bildverarbeitungsalgorithmen. Das Modell verwendet eine Kombination aus Musteranpassung, Transformationsalgorithmen und filterbasierten Intensitätsskalierungsalgorithmen, um Bilder zu analysieren und Fehler zu erkennen. Durch einen schrittweisen Analyseprozess ist die Anlage in der Lage, potenzielle Defekte auch in hochkomplexen Mustern schnell zu identifizieren. Das integrierte Fehlerinspektionssystem bietet eine benutzerfreundliche Lösung zur Analyse von Bildern auf mögliche Mängel. Durch die Verwendung von Fehleranalyse-Vorlagen können Benutzer Bilder leicht auf Fehler überprüfen und klassifizieren. Nach Abschluss der Klassifizierung können automatisierte Tools verwendet werden, um die Fehler zu organisieren und Berichte zu erstellen. Schließlich verfügt KLA SP 1 DLS auch über eine automatisierte Fehlervergleichseinheit, mit der Benutzer Fehler über mehrere Photomasken oder Wafer vergleichen können. Mit dieser Funktion können Benutzer schnell Bereiche identifizieren, in denen Fehler vorhanden sind, oder feststellen, ob neue Fehler aufgetreten sind. Zusammenfassend ist KLA/TENCOR SP 1-DLS Maschine ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das verwendet wird, um hochgenaue Photomasken für die Herstellung zuverlässiger Halbleiterbauelemente zu gewährleisten. Das Asset verwendet mehrere fortschrittliche Technologien, wie ein hochauflösendes Mikrospiegel-basiertes Bildgebungsmodell, eine progressive digitale Farbkamera mit Scan und erweiterte Bildverarbeitungsalgorithmen, um Fehler schnell und genau zu erkennen und zu klassifizieren. Die integrierte Fehlerinspektionsanlage bietet eine benutzerfreundliche Methode, um Bilder auf Fehler zu untersuchen, während das automatisierte Fehlervergleichssystem es Anwendern ermöglicht, Fehler über mehrere Wafer und Photomasken hinweg zu vergleichen.