Gebraucht KLA / TENCOR SP1-DLS #9283698 zu verkaufen

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ID: 9283698
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
Particle measurement system, 12" Dual FOUP 2003 vintage.
KLA/TENCOR SP1-DLS ist eine führende Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für fortgeschrittene Photomasken, Einzelwafer und Chargenteststrukturen. Dieses System dient zur Erkennung von Fehlern in Photomasken und Wafern und ist in der Lage, bis zu 12 Wafer/Masken gleichzeitig mit hohen Geschwindigkeiten abzutasten. KLA SP1 DLS ist mit einem Mehrstrahl-Lasersensor ausgestattet, der mehrere Bilder gleichzeitig aufnehmen kann. Diese Bilder werden dann auf Defekte analysiert, in Größen von 0,7 μ m bis zu größeren Defekten. Die Fehleranalyse kann sowohl manuell als auch mit Hilfe von Fachleuten durchgeführt werden. TENCOR SP 1-DLS Gerät ist mit Auto-Programmierung und Auto-Inspektion Funktionen ausgestattet, die es einfacher und schneller machen, Wafer und Masken zu überprüfen. Die Maschine verfügt auch über ein Fehlerprüfprogramm, mit dem Benutzer Fehlerstandorte segmentieren, minimieren, visualisieren, analysieren und melden können. Dieses Werkzeug kann eine Vielzahl von Materialien handhaben, einschließlich organischer und anorganischer Filme, und ist in der Lage, Bilder von niedrigen und hohen reflektierenden Oberflächen zu erfassen. KLA SP 1-DLS Asset bietet Anwendern erweiterte Fehlererkennung, Bildverarbeitung und Datenanalyse. Es verwendet Echtzeit-Technologie, um große Datenmengen zu scannen und zu analysieren und schnell mehrere Bilder aus verschiedenen Winkeln zu erzeugen. Daten können zur weiteren Analyse in beliebige Software von Drittanbietern exportiert werden. Das Modell verfügt über anpassbare Parameter, mit denen Benutzer die Fehlererkennung je nach Bedarf anpassen können. TENCOR SP 1 DLS Ausrüstung ist eines der fortschrittlichsten Systeme für Masken- und Wafer-Inspektion auf dem Markt. Dieses fortschrittliche System ist in der Lage, winzige Fehler zu erkennen, bietet genaue Datenanalyse und Berichtsgenerierung und bietet erschwingliche Preise. Es ist für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet und soll hohe Leistung und Zuverlässigkeit in Masken- und Waferinspektionsanwendungen bieten.
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