Gebraucht KLA / TENCOR SP1-DLS #9375212 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-DLS ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die von der KLA, einem globalen Anbieter von Prozesskontroll- und Ertragsmanagementlösungen, entwickelt wurde. Dieses System soll es Herstellern in der Halbleiter- und Elektronikindustrie ermöglichen, ihre Masken- und Wafer-Designs schnell und genau auf Maßhaltigkeit und Pixelgenauigkeit zu überprüfen. Dieses Gerät verwendet fortschrittliche Bildgebungs- und Mustererkennungstechnologien, um Masken- und Wafer-Designs bei allen Auflösungen und Seitenverhältnissen zu scannen und zu analysieren. KLA SP1 DLS ist eine automatisierte Maschine, die Beleuchtung und messtechnische Steuerung zu einer einzigen Einheit kombiniert, um Masken- und Waferoberflächen genau zu überprüfen. Es wurde entwickelt, um einen schnellen, zuverlässigen Datenvergleich und -validierung zu ermöglichen, so dass Anwender schnell Anomalien oder Mängel identifizieren und ihre Auswirkungen auf den Produktionsertrag analysieren können. Das Tool enthält mehrere Ausrichtungsmodi und eine 3D-Topographie-Funktion, mit der Benutzer Strukturen auf einem Wafer und einer Maske in zwei Richtungen messen und charakterisieren können; eine in der X-Y-Ebene und eine in der Z-Ebene. Das Asset verwendet ein hochauflösendes digitales Bildgebungsgerät und einen hochpräzisen Scanner, um Bilddateien von Masken- und Waferoberflächen zu erfassen und anzuzeigen. Das Modell ist in der Lage, Bilder mit Auflösungen von bis zu 300 Nanometern zu erfassen. Die Datengenauigkeit wird durch eine Miniskop-Ausrüstung, die direkt in das System integriert ist, die für die Feinfunktionsscannung verwendet wird, weiter verbessert. Das Gerät ist mit einer Reihe fortschrittlicher Software-Tools für die Bildverarbeitung und -analyse ausgestattet, einschließlich eines 3D-Topographie-Tools, mit dem der Benutzer Höhe, Breite und andere Funktionen auf einem Wafer oder einer Maske in drei Dimensionen messen kann. Die Maschine enthält auch ein Fehlererkennungs- und Vergleichswerkzeug, mit dem Bilder verschiedener Masken oder Wafer verglichen werden können, um Größenunterschiede zu erkennen und zu überwachen. Das Tool unterstützt eine breite Palette von branchenüblichen Datenformaten wie GDS-II, Oasis und andere. Neben seinen ausgeklügelten Bildgebungs- und Analysefunktionen bietet TENCOR SP 1-DLS asset eine Vielzahl von Ertragsanalyse- und Prozesskontrollfunktionen. Das Modell umfasst sowohl einen Geometrieprüfbericht-Builder, der Berichte über Fehlergröße und -ort generieren kann, als auch ein Werkzeug zur Optimierung des Prozessfensters, das die Einstellungen des Prozessfensters für jedes Produkt analysieren und anpassen kann. Das Gerät bietet zudem eine komplette Fehlerüberprüfungs- und Nachverfolgbarkeit und eine benutzerdefinierte Toleranzmatrix für Masken- und Wafer-Vergleiche. Insgesamt ist KLA/TENCOR SP 1-DLS ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das Herstellern ein Mittel bietet, ihre Masken- und Wafer-Designs schnell und genau zu analysieren. Es verfügt über eine umfassende Palette von Bildgebungs- und Analysewerkzeugen sowie Ertragsanalyse- und Prozesskontrollfunktionen, mit denen Hersteller ihre Produktionserträge optimieren und ihre Gesamtprozessleistung verbessern können.