Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI SURFSCAN #9097041 zu verkaufen

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ID: 9097041
Unpatterned surface inspection system Puck / vacuum handling Wafer measurement module Triple beam illumination (TBI) Normal illumination: 0.079 Defect sensitivity Oblique illumination: 0.060 Defect sensitivity Haze sensitivity: 0.005 ppm Ar Ion laser: 488 nm Measurement chamber with ULPA filter and blower unit Operator interface Microsoft windows NT 4.0 operating system Security, logging and native networking as provided by Windows NT Interactive pointing device Key pad controls Parallel printer port Defect map Histogram with zoom Micro view measurement capability Blower box Manual.
KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCAN ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage für den Einsatz in der mikroelektronischen Produktion. Dieses Halbleiterproduktionssystem bietet umfassende Funktionen zur Erkennung von Oberflächenfehlern, sodass Anwender kleinste Defekte an Masken und Wafern mit einer Größe von bis zu 0,02 Mikrometern identifizieren können. KLA SP1-TBI SURFSCAN besteht aus mehreren Einheitensystemen, darunter der Maskeninspektionseinheit (MIU) und der Waferinspektionseinheit (WIU). Die MIU bietet erweiterte Funktionen zur Fehlererkennung und ist eine gute Wahl für die Serienproduktion. Diese Einheit ermöglicht eine hochpräzise Submikron-Fehlererkennung an Maskenmustern mit einer Genauigkeit von bis zu 0,3 Mikrometern. Die WIU bietet zusätzliche Funktionen, die eine Fehlerprüfung von Drahtverbindungen und anderen externen Mängeln ermöglichen. Neben den erweiterten Fehlererkennungsfunktionen bietet TENCOR SP1-TBI SURFSCAN eine breite Palette von Bildgebungsoptionen, die es ihm ermöglichen, eine Vielzahl verschiedener Funktionen zu überprüfen. Dazu gehören KE-Größe, Seitenverhältnis und Linienbreite/-abstand. Es bietet auch einzigartige Winkelkompensations- und Ortungsverfolgungsfunktionen, die es ermöglichen, Fehler, die mit herkömmlichen optischen Systemen schwer zu erkennen sind, genau und schnell zu erkennen. SP1-TBI SURFSCAN ist auch in der Lage, bildgebende Lösungen mit hoher Genauigkeit bereitzustellen. Dies macht die Verwendung von fortschrittlichen Algorithmen, die Text, Bilder und Muster auf Masken mit einem großen Grad an Detail rendern können. Darüber hinaus ermöglicht das Gerät schnelle und genaue Messungen an 3D-Wafern mit hochauflösenden In-Die-Features, die zuverlässige Ergebnisse für die Produktionslinienautomatisierung liefern. In der Zwischenzeit bietet diese Maschine leistungsstarke Echtzeit-Fehleranalysefunktionen mit der Option für Benutzer, Ergebnisse on-the-fly zu speichern und zu analysieren. Insgesamt ist KLA/TENCOR SP1-TBI SURFSCAN ein fortschrittliches Produktionswerkzeug, mit dem Benutzer Fehler an Masken und Wafern genau erkennen können. Es bietet genaue Messungen und High-Fidelity-Bildgebung, mit einem hohen Grad an Detail und Qualität. Darüber hinaus verfügt es über robuste Fehlererkennungsfunktionen, die Anwendern helfen, selbst kleinste Fehler bis zu 0,02 Mikrometer zu erkennen. Mit flexiblen Bildgebungsoptionen und leistungsstarken Fehleranalysefähigkeiten ist KLA SP1-TBI SURFSCAN eine ideale Wahl für Halbleiterfertigungslinien.
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