Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #293678701 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-TBI ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die den Anforderungen führender Halbleiterbauelementehersteller an eine präzise und zuverlässige Qualitätskontrolle gerecht wird. KLA SP1T-BI bietet überlegene optische und Wafer-Form-Inspektionsmöglichkeiten, kombiniert mit modernsten Bildverarbeitungsalgorithmen. Dieses System eignet sich zur Identifizierung von Partikeln, Kratzern, Blasen, IC-Rejects und Hohlräumen auf beiden Waferoberflächen und durch eine einzige Inspektionsebene. TENCOR SP1 TBI verwendet eine Art von Bildgebung, die als helles Feld/Dunkelfeld (BF/DF) bezeichnet wird, um ein vollständiges und detailliertes Bild der Masken- und Waferfunktionen zu erfassen. Diese Abbildung erfasst die Konturen von Strukturen auf beiden Seiten des Wafers und dient zur Identifizierung von Fehlern in Größe, Position und Form. Die Präzision dieser Bildgebung beruht auf einer Kombination aus fortschrittlicher Optik und einer innovativen Beleuchtungseinheit, mit der Pixelformen und einzelne Strukturen mit hoher Genauigkeit und Auflösung identifiziert werden können. SP 1-TBI verfügt auch über eine erweiterte Bildanalyse-Software-Maschine, mit der das Werkzeug mögliche Fehler punktgenau identifizieren kann. Diese Bildanalysesoftware verwendet proprietäre Algorithmen, um Formen, Größen, Positionen und Texturen von Strukturen auf beiden Seiten der Maske und des Wafers zu identifizieren. Dieses Bildanalyse-Asset ist in der Lage, berührungslose Fehler schnell und genau aufzuspüren, auch bei extrem kleinen Funktionsgrößen. Das Softwaremodell von KLA SP 1 TBI verfügt auch über eine proprietäre „Ereignis“ -Erkennungsfunktion, die es ermöglicht, den Benutzer zu benachrichtigen, wenn es eine Anomalie identifiziert. Diese „Ereignisse“ können auf alles hinweisen, von Partikelkontamination bis hin zu IC-Zurückweisungen. Darüber hinaus können KLA/TENCOR SP 1-TBI Waferform Verformungen erkennen, so dass es Waferkrümmung messen und Verzug kompensieren, um die Genauigkeit der Messung sicherzustellen. Die Ausrüstung ist auch für eine effiziente große Waferinspektion ausgelegt. Es verfügt über eine begleitende Automatisierungsstation, die das einfache Be- und Entladen großer Wafer während der Inspektion ermöglicht. Die Automation Station bietet auch eine interaktive Schnittstelle, um optimale Workflows und Wafer-Sortiervorgänge zu ermöglichen. Insgesamt ist KLA SP1 TBI ein anspruchsvolles und zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das den Anforderungen der modernen Halbleiterindustrie gerecht wird. Die Kombination aus Bildverarbeitung und optischer Inspektion sorgt für präzise und korrekte Ergebnisse, während die automatisierte Station eine effiziente große Waferinspektion ermöglicht. Die Ereigniserkennungsfunktion von KLA/TENCOR SP1 TBI ergänzt zudem ihre Zuverlässigkeit und Genauigkeit und ist damit eine ideale Wahl für die Qualitätskontrolle von High-End-Masken und Wafern.