Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #9037347 zu verkaufen

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ID: 9037347
Wafergröße: 8" and 12"
Weinlese: 2005
Single open cassette type Vaccum chuck type Software 4.1 Ver. Particle counter, 8" and 12" Single open cassette Vacuum chuck type Software: version 4.1 Laser and laser power supply Triple beam illumination (TBI) Wafer type: bare and film Normal illumination: 0.079um defect sensitivity, oblique illumination, 0.06um defect sensitivity 0.005 ppm Haze sensitivity Ar Ion laser (488nm) RTDC (Real time defect classification) Measurement chamber with ULPA filter and blower unit Security, Logging and Native Networking Key pad controls, TFT flat panel display Parallel printer port Defect map and histogram with zoom Micro view measurement capability Blower box Currently de-installed 2005 vintage.
KLA/TENCOR SP1-TBI Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein fortschrittliches Wafer- und Maskeninspektionssystem für die Produktion von Hochgeschwindigkeits-Photomasken. Das Gerät nutzt zwei unabhängige Inspektionskanäle auf einer Plattform, um eine qualitativ hochwertige Wafer- und Maskeninspektion mit bis zu 12 MHz zu ermöglichen. KLA SP1T-BI ist für die Fehlercharakterisierung und Musterüberprüfung auf komplexen Mustern von 6-Zoll oder 8-Zoll-Photomasken-Wafern konzipiert. Die Maschine ist mit hochauflösenden Kameras und Optik ausgestattet, um Muster auf den Photomasken-Wafern zu erfassen und zu analysieren. Das Werkzeug verfügt außerdem über ein Stage Motion Asset, das einen XY-Scan der Oberfläche der Maske und eine zweiachsige Neigungsstufe ermöglicht. Das Modell ist auch in der Lage, verschiedene Arten von Defekten zu erkennen, darunter: kleiner Pitch-Line-Defekt, über Ätzfehler, Fehltreffer, Fehltreffer, Schicht-Fehlausrichtungen, ungespeicherte Schachbrettmuster, unter Ätzfehlern und vieles mehr. Das Gerät kann relevante Wafer-Defekte genau erkennen und die Wafer-Form erkennen, um die inspizierte zu identifizieren. Mit einem HPC (High Performance Compute) -System kann die TENCOR SP1 TBI-Einheit mehrere Bilder gleichzeitig verarbeiten und lithographische Fehler schnell identifizieren. Hochgeschwindigkeits-Scan und Inspektion werden durch schnelle Scan-Mapping und Datenverarbeitung angetrieben. Die Maschine verfügt über einen automatisierten Fehlerkategorisierungs- und Einstufungsprozess, um schnell einen detaillierten Bericht zu erstellen. TENCOR SP1-TBI Mask & Wafer Inspection Tool ist eine ideale Lösung für die Produktion von hochwertigen Masken. Es bietet verbesserte Zuverlässigkeit, Genauigkeit und Hochgeschwindigkeitsprüfung und ermöglicht einen verbesserten Durchsatz im Vergleich zu jedem manuellen Scanvorgang. Das Asset verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche, um die Nutzung für Betreiber zu erleichtern. Darüber hinaus nutzt das Modell eine ausgeklügelte Software, um Prozesschargen zu verfolgen, zu speichern, zu klassifizieren und zu analysieren. Die Geräte bieten detaillierte Berichte für verschiedene Arten von Schritt- und Überprüfungsvorgängen, um eine effektive Rückverfolgbarkeit zu ermöglichen. KLA/TENCOR SP1 TBI bietet hervorragende Gesamtleistung mit überlegener Genauigkeit und unübertroffener Geschwindigkeit. Das System erfüllt die Anforderungen der anspruchsvollsten Produktionsprozesse, um eine zuverlässige kostengünstige Produktion zu gewährleisten.
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