Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #9145376 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-TBI ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die die schnelle und genaue Messung von Fehlerpegeln auf Wafern ermöglicht. Das System bietet ein hohes Leistungsniveau und eignet sich hervorragend für den Einsatz in einer Vielzahl von Anwendungen, von der Halbleiterherstellung bis zur MEMS-Fertigung. Das Herzstück der KLA SP1T-BI ist die 2D-Bildgebungstechnologie. Diese Technologie ermöglicht es, kleine Fehler mit hoher Genauigkeit bei schnellen Scangeschwindigkeiten zu erkennen. Es ist mit einem ultraschnellen, 12-Megapixel-CMOS-Detektor mit niedriger Dichte ausgestattet, der es ermöglicht, hochauflösende Bilder in Echtzeit zu erfassen, sodass es subtile Änderungen im Masken- und Waferprofil erkennen kann. Das Gerät verfügt auch über integrierte hochentwickelte Bildverarbeitungs- und Analysealgorithmen wie 3D-Bildanalyse, die Masken- und Wafer-Topographie messen, Defekte im Muster aufzeigen und die Ungleichförmigkeit der Merkmale eines Musters quantifizieren können. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, schnelles Feedback zu kritischen Prozesskontrollparametern wie Registrierungsoffsets und Platzierungsgenauigkeit zu liefern. Damit ist das Tool ideal für Prozessentwicklungs- und Prozessüberwachungsanwendungen. TENCOR SP1 TBI wurde entwickelt, um eine flexible, umfassende Lösung für die Anforderungen der Masken- und Waferinspektion zu bieten. Der modulare Aufbau macht es einfach, sich in bestehende Fertigungsprozesse zu integrieren, und seine benutzerfreundliche grafische Oberfläche und intuitive Bedienung machen es einfach zu bedienen. Darüber hinaus eignet es sich aufgrund seiner Zuverlässigkeit und Genauigkeit gut für den Einsatz in langfristigen Produktionsläufen. Es verfügt auch über erweiterte Prozesskontrolle, Audit Trail und Diagnosefunktionen, die es ermöglichen, innerhalb der Kalibrierungsparameter zu bleiben und Unregelmäßigkeiten zu erkennen und zu melden. Insgesamt ist KLA SP1 TBI eine fortschrittliche bildgebende Komponente, die schnelle, genaue und umfassende bildgebende Funktionen bietet, die für die Masken- und Waferinspektion unerlässlich sind. Mit seiner Hochleistungs-Bildgebungstechnologie, ausgefeilten Bildanalyse-Algorithmen und umfassenden Prozesskontrolle und Audit Trail-Funktionen ist das Modell eine ideale Wahl für Forschung und Produktion.