Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #9217879 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-TBI Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein automatisiertes System zur Erkennung und Analyse von Defekten an 3D-Mikromasken und -Wafern. Das Gerät bietet einen umfassenden Satz von Masken- und Wafer-Inspektionsmöglichkeiten, die in einer Vielzahl von Branchen innerhalb der Halbleiterindustrie eingesetzt werden können, wie automatisierte Testgeräte, fortschrittliche Verpackungen, MEMS-Fertigung und andere IC-Fertigungsprozesse. KLA SP1T-BI Masken- und Waferinspektionsmaschine verfügt über einen fortschrittlichen Maskeninspektionsalgorithmus, um Fehler zu erkennen. Dieser Algorithmus verfügt über eine dreidimensionale (3D) modellbasierte Mustererkennungstechnologie, die es Anwendern ermöglicht, Fehler an Masken und Wafern schnell und genau zu analysieren. Dieses Tool ist in der Lage, sowohl kleine als auch große Fehler zu erkennen, von fehlerhaften Funktionen und Maskierungsfehlern bis hin zu defekten oder fehlenden Funktionen. Das Asset ist auch in der Lage, hochauflösende Bilder der Masken und Wafer mit einer Fünf-Megapixel-Kamera für die Vollbild-Bildgebung zu erfassen. So erhalten Anwender eine umfassende Ergebnisliste mit detaillierten Positionsinformationen für jeden Defekt. Dieses Modell verwendet eine automatisierte Bühnensteuerung, mit der Benutzer die Probe problemlos über das Sichtfeld verschieben können. Darüber hinaus verfügt die Ausrüstung über eine leistungsstarke Größen- und Funktionsklassifizierung, die verschiedene Arten von Defekten unterscheiden kann. Diese Funktion bietet Anwendern eine umfassende Liste von Ergebnissen mit Fehlerverteilungen und -typen für die Fehleranalyse. Dieses System enthält auch eine leistungsstarke Bildverarbeitungssuite, um eine schnelle Fehlerauswertung zu ermöglichen und die menschliche Müdigkeit zu lindern. Darüber hinaus ist die TBI-Masken- und Wafer-Inspektionseinheit TENCOR SP1 mit einer intuitiven grafischen Oberfläche ausgestattet, um die Bedienung zu vereinfachen. Diese Schnittstelle wurde entwickelt, um die Benutzereffizienz zu optimieren, die Fehlerüberprüfungsgenauigkeit zu verbessern und effiziente und wiederholbare Ergebnisse zu ermöglichen. Diese benutzerfreundliche Oberfläche bietet Anwendern auch eine visuelle Anzeige von Problembereichen, wodurch Benutzer bestimmte Fehlerregionen zur Überprüfung auswählen können. Insgesamt bietet KLA SP 1-TBI Masken- und Wafer-Inspektionsmaschine hohe Leistung und zuverlässige Fehlererkennung, um die höchste Ausbeute und Zuverlässigkeit von Halbleiterbauelementen zu ermöglichen. Dieses Tool bietet Anwendern eine fortschrittliche und komplette Lösung für Masken- und Wafer-Inspektionen mit der Kombination aus seinem fortschrittlichen Algorithmus, hochauflösender Bildgebung, automatischer Bühnensteuerung, Größen- und Funktionsklassifizierung und benutzerfreundlicher Oberfläche.