Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #9226564 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-TBI ist eine leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterhersteller weltweit gerecht wird. Mit einem fortschrittlichen, dedizierten ultravioletten Laser liefert KLA SP1T-BI schnelle und genaue Messungen kritischer Geometrien, die erforderlich sind, um eine fortschrittliche Prozesskontrolle zu gewährleisten. Das System wurde entwickelt, um überlegene Oberflächen, kritische Parameter und Überlagerungsmessungen sowie Formelementgrößen bereitzustellen, die mit hochvolumigen Prozessknoten korreliert sind. Es integriert eine Vielzahl von Bildgebungs-, Sensor- und Laserwerkzeugen und bietet eine fortschrittliche Kombination aus Näh- und Nähschärfe für die Fehlerdiagnose. TENCOR SP1 TBI ist mit dem höchsten Maß an Produktivität im Auge entworfen, mit einer 250 mm Scanner-Plattform mit schneller, zuverlässiger Wafer-Handhabung und Hochgeschwindigkeits-Nähfähigkeit für eine effiziente Muster- und Ausrichtungsuntersuchung. Das Gerät umfasst auch eine robuste Reihe von Analyse- und Datenverarbeitungswerkzeugen zur Unterstützung automatisierter Produktions- und Qualitätskontrollprozesse. Die Maschine wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Inspektions- und Überprüfungsaufgaben zu unterstützen, einschließlich fortschrittlicher Prozesskontrollanforderungen für verschiedene Arten von Strukturen. TENCOR SP 1 TBI nutzt die besten bewährten optischen Technologien wie Hellfeld-, Dunkelfeld- und Phasenkontrast-Bildgebung und bietet eine verbesserte hochauflösende Bildgebung, um auch kleinste Fehler genau zu identifizieren. Das Tool verfügt auch über leistungsstarke Wafer-Ausrichtungsfunktionen für verbesserte Geschwindigkeit und Genauigkeit. Es arbeitet automatisch zu erkennen und zu quantifizieren Substrat Overlay Fehler oder Textur Probleme mit Präzision, und enthält eine Vielzahl von erweiterten Software-Funktionen, die sowohl on-line und Offline-Messungen unterstützen. Darüber hinaus führt TENCOR SP1T-BI eine Reihe fortschrittlicher Wafer-Level-Messungen und Inspektionslösungen durch, wie fortschrittliche Pixel-Level-Defekt-Inspektion, OCR-Technologien und Unterstützung für eine Vielzahl von Mustertechnologien. Seine verbesserten Stabilitätsfähigkeiten ermöglichen definitive Messergebnisse auf einer Vielzahl von Substraten, von Photomasken bis zu Wafern. Darüber hinaus bietet KLA SP1 TBI erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen, die eine Echtzeit-Messung und ein Feedback zur Ausrichtung ermöglichen. Seine erweiterte Kontrolle und Fähigkeit Profilierung erhöhen Fluss und Durchsatz, so dass verbesserte Erträge und verringerte Abfälle. Insgesamt ist KLA SP 1 TBI eine leistungsfähige und zuverlässige Masken- und Waferinspektionsanlage, die überlegene Bildgebungs-, Sensor- und Laserfunktionen für genaue Ergebnisse bietet. Mit seinen robusten Softwarefunktionen und erweiterten Prozesskontrollfunktionen ist KLA/TENCOR SP1 TBI für eine Vielzahl von Qualitätskontroll- und Entwicklungsaufgaben unerlässlich. KLA/TENCOR SP 1 TBI ist die ideale Wahl für Halbleiterhersteller, die zuverlässige, schnelle und genaue Ergebnisse benötigen.