Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #9230385 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-TBI ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage der nächsten Generation, die entwickelt wurde, um die hochpräzisen Anforderungen der Halbleiterchip-Produktion zu erfüllen. Das System kombiniert fortschrittliche Bildgebungstechnologie, fortschrittliche Algorithmen und eine Reihe von Datenaufbereitungs- und Analysetools, die eine ultrahochpräzise Wafer- und Maskeninspektion während des gesamten Produktionsprozesses ermöglichen. KLA SP1T-BI nutzt eine Reihe von optischen Abbildungstechnologien, einschließlich Ultraviolett-Lithographie (EUVL) Inspektion mit geladenen gekoppelten Gerät (CCD), Elektronenstrahl Inspektion mit Rasterelektronenmikroskopie (SEM), und Mikron-Scale Inspektion mit Laserscanning konfokale Mikroskopie (Lscopie). Jede dieser Technologien wurde entwickelt, um Fehler mit größtmöglicher Genauigkeit und kleinstem Platzbedarf zu erkennen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine laserbasierte optische Tiefenleistungssonde (ODPP) für Oberflächenhöhenmessungen und eine Wirbelstromabbildungssonde (ECIP) für Orientierungs-, Tiefen- und Krümmungsmessungen. Die Maschine umfasst auch erweiterte Optik und Algorithmen für die Echtzeit-Datenerfassung und -analyse. Es verwendet eine Vielzahl von Techniken, einschließlich adaptive Optik, optoelektrische Fehlerabbildung, Texturabbildung und Mustererkennungsalgorithmen, um die Bilder zu analysieren und Fehler zu erkennen, die die Zuverlässigkeit und Leistung des Geräts beeinflussen können. TENCOR SP1 TBI verfügt auch über fortschrittliche Automatisierungstechnologien, die die Integration in bestehende Wafer- und Maskeninspektionsprozesse erleichtern. Es wurde entwickelt, um eine schnelle Rüstzeit, einen zuverlässigen Werkzeugbetrieb und eine schnelle Fehlererkennung zu gewährleisten. Es ist auch in der Lage, die Wafer- und Maskeninspektionsumgebung zu kontrollieren und eine sichere und konsistente Produktionsumgebung zu gewährleisten. Die Anlage ist auch so konzipiert, dass sie ein hohes Maß an Leistung und Effizienz bietet. Die Datenerfassungs- und Analysewerkzeuge ermöglichen eine schnelle und genaue Erkennung von Fehlern während des gesamten Produktionsprozesses. Es ist auch eine ideale Lösung für hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsaufgaben, da seine Algorithmen für die Fehlererkennung mit höchster Genauigkeit optimiert sind. Insgesamt ist TENCOR SP1-TBI ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das die anspruchsvollsten Anforderungen der Halbleiterchip-Produktion erfüllt. Die fortschrittlichen Technologien für Bildgebung, Automatisierung und Datenanalyse bieten eine schnelle und genaue Fehlererkennung, während die Suite an Tools und Datenmanipulationsfunktionen eine einfache Integration in bestehende Prozesse ermöglicht. Es ist eine ideale Wahl für hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsaufgaben.