Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #9248729 zu verkaufen

KLA / TENCOR SP1-TBI
ID: 9248729
Systems.
KLA/TENCOR SP1-TBI Mask & Wafer Inspection Equipment ist ein automatisiertes Präzisionswerkzeug zur Qualitätskontrolle und Fehleranalyse von Halbleiterscheiben während des Herstellungsprozesses. Dieses System ermöglicht es dem Bediener, Bereiche der Waferoberfläche schnell und genau auf Defekte, Verunreinigungen, Verschmutzungen oder andere Unregelmäßigkeiten zu analysieren. KLA SP1T-BI bietet hochauflösende Bildgebung, leistungsstarke Analysen und flexible Benutzeroberfläche sowie eine Reihe von Analysetools und leistungsstarken Imaging-Workflow. Das Gerät umfasst anspruchsvolle Hard- und Software, die einen hohen Durchsatz, eine extrem schnelle Bildaufnahme und eine präzise Mustererkennung ermöglicht. Es enthält: eine helle, klare Bildanzeigemaschine; eine optische Stufe, die eine schnelle und präzise Probenausrichtung ermöglicht; zwei Vollfeldkameras, die Bilder mit hoher Auflösung und mehreren Einstellungen aufnehmen; und eine Schnittstelle zwischen dem PC und dem Werkzeug, um Visualisierung, Speicherung und Datenverwaltung bereitzustellen. Das Asset umfasst auch eine Reihe von Analysetools. Es bietet drei primäre Fehlerkategorien: Fremdpartikel, allgemeine Defekte und anomale Merkmale. Darüber hinaus können Bediener auf drei Ebenen-Mapping-Techniken zugreifen: Mehrwinkel-Beleuchtung Dunkelfeld (MIDF), Normale Beleuchtung Dunkelfeld (NIDF) und Phase Shift Defect Detection (PSDD). Dies ermöglicht eine Anordnung von kompositorischen und/oder strukturellen Pixelniveaudefekterkennung. Die Analysetools bieten eine intuitive Benutzeroberfläche zur Kombination von automatischer und manueller Analyse. Die automatisierte Probenahme ist ein weiterer Aspekt von TENCOR SP1 TBI. Die Probenahme kann vom Anwender nach anwendungs- und standortspezifischen Anforderungen konfiguriert werden. Es richtet Bilder mit bis zu 5.000 Wafern pro Stunde automatisch aus und erfasst sie und kann Fehler bis zu 6nm erkennen. Darüber hinaus kann es Wafer mit schweren Schäden entfernen, so dass abgelehnte Wafer praktisch beseitigt werden. KLA/TENCOR SP1 TBI bietet auch eine Reihe von Schnittstellen zu mehreren Datenmanagementsystemen, so dass Betreiber kritische Produktionsinformationen effizient übertragen und gemeinsam nutzen können. Dies trägt zur Qualitätskontrolle von Wafern in der Produktionslinie bei. Zusammenfassend bietet KLA SP1-TBI Mask & Wafer Inspection Model ein vielseitiges und kostengünstiges Werkzeug für die Halbleiterwaferinspektion. Es bietet präzise Abbildungs- und Fehlererkennungsfunktionen in Kombination mit automatisierter Probenausrichtung; seine intuitive Benutzeroberfläche bietet eine Reihe von Analyse-Tools und Schnittstellen zu Datensystemen - alles, um die Qualitätskontrolle von Wafern während des Herstellungsprozesses zuverlässig zu gewährleisten.
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