Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #9257956 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1-TBI ist ein Wafer- und Maskeninspektionsgerät, das einen zuverlässigen und kostengünstigen Ansatz für die automatisierte optische Prozessüberwachung und Fehlererkennung bietet. Dieses System ist ideal für die inoNode-Prozesssteuerung in fortgeschrittenen Halbleiterherstellungsumgebungen, so dass es für eine Vielzahl von Gerätetypen geeignet ist. KLA SP1T-BI wurde entwickelt, um den anspruchsvollen Anforderungen der Masken- und Waferinspektion gerecht zu werden. Es ist mit einem 4K hochauflösenden optischen Mikroskop und proprietären Optik-basierten Steuerungssystemen für fortgeschrittene Bildgebung und Fehleranalyse ausgestattet. Darüber hinaus ermöglicht das Gerät die automatische Erzeugung hochauflösender Bilder und führt umfassende Autofokus-Algorithmen aus, um die Bildauflösung bei extrem schnellen Abtastraten zu optimieren. TENCOR SP1 TBI integriert erweiterte Bildverarbeitungsalgorithmen, die es ihm ermöglichen, eine Reihe von Fehlertypen zu erkennen, einschließlich Musterfehler, Herstellungsfehler usw. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, eine breite Palette von dielektrischen Schichten zu erkennen, so dass sie für eine fortschrittliche Prozessüberwachung geeignet ist. Darüber hinaus unterstützt das Werkzeug die selektive Ätzprüfung und Messung von über/unter Belichtung für eine Vielzahl von Prozessschritten. Die Softwarekomponente von TENCOR SP1-TBI bietet eine benutzerfreundliche Oberfläche und leistungsstarke Datenanalysefunktionen. Es verfügt über eine breite Palette von bildgebenden Modi, die eine genaue Bildaufnahme mit schnellen Scangeschwindigkeiten sowie Unterstützung für verschiedene Verarbeitungstechniken ermöglichen. Das Asset verfügt auch über Echtzeit-Fehlerverfolgungsmodus und automatische Fehlerklassifizierung. Darüber hinaus kann die Software detaillierte Elektronik Performance Maps (EPMs) für verschiedene Schichten und Strukturen generieren. SP1-TBI umfasst auch Prozesssteuerungsmöglichkeiten für Regelungssysteme, die Anpassungen und Korrekturen bei der Herstellung von Wafern und Masken ermöglichen. Diese Prozesssteuerungsoptionen ermöglichen auch die Integration und den Datenaustausch mit anderen Teilen des Herstellungsprozesses. Insgesamt ist SP1T-BI eine ideale Lösung für die optische Prozessüberwachung und Fehlererkennung. Es ist sehr zuverlässig und kostengünstig und bietet eine umfassende und benutzerfreundliche Plattform für eine breite Palette von Wafer- und Maskeninspektionen. Mit seinen erweiterten Bildgebungs- und Fehlererkennungsfunktionen sowie leistungsstarken Software- und Prozesssteuerungsoptionen ist KLA SP1-TBI das perfekte Werkzeug für die fortschrittliche Halbleiterherstellung.