Gebraucht KLA / TENCOR SP1-TBI #9293511 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9293511
Weinlese: 2006
Surface inspection system
Dual FOUP, 12"
Type: Wafer handling vacuum
Operating system: Windows NT
2006 vintage.
KLA/TENCOR SP1-TBI ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine zuverlässige und genaue Fehlererkennung für Halbleiterherstellungsprozesse ermöglicht. Dieses System basiert auf der hochmodernen TBI (Transient Beam Inspection) -Technologie, die eine diagnostische Beleuchtung ermöglicht, die selbst das geringste Problem schnell offenbart. KLA SP1T-BI ist ein halbautomatisches Inspektionswerkzeug zur Präzisionshalbleiterherstellung. Es wurde entwickelt, um Logik- und Speichergeräte zu überprüfen, die auf modernsten Lithographie-Fertigungsanlagen hergestellt werden. Es verwendet eine Reihe von Lasern, um Licht mit verschiedenen Wellenlängen und Winkeln zu pulsen, was eine hochauflösende Abbildung von empfindlichen Merkmalen in kurzer Zeit ermöglicht. Dies ermöglicht die genaue Erkennung von Defekten, von großen bis zu Sub-Mikron-Details. Die Genauigkeit des Geräts wird durch seine ControlScope-Technologie weiter verbessert, so dass der Bediener Parameter entsprechend seiner gewünschten Leistung anpassen kann. Um Fehler zu beurteilen, wird die Maschine mit proprietären Messalgorithmen und Software-Tools wie Defect Review Editor und Defect Match gebaut. Dies hilft, die verschiedenen Arten von Defekten zu identifizieren und liefert Informationen über Größe, Form, Tiefe und Position des Defekts. TENCOR SP1 TBI ist mit einer hochempfindlichen kalibrierten und linearen CCD-Detektormatrix für genaue Bildgebung und mehr Genauigkeit ausgestattet. Seine erweiterte Fokus Bildgebungstechnik neutralisiert die Wirkung von Staub und außerhalb des Fokus Defekte, so dass eine schnelle, genaue Erkennung. Das Tool bietet zudem eine robuste CAD-Datenunterstützung (Computer Aided Design) für eine Vielzahl von Datenformaten, die eine schnelle Einrichtung und effiziente Prozesssteuerung ermöglicht. Darüber hinaus kann das Asset Berichte mit detaillierten Informationen zu Fehlern und Mängeln zur umfassenden Prozessanalyse und Rückverfolgbarkeit erstellen. All diese Merkmale machen SP 1 TBI zu einer idealen Lösung für eine effiziente Masken- und Waferinspektion in der Halbleiterherstellung. Seine hochmoderne TBI-Technologie, robuste CAD-Datenunterstützung, Steuerparameter und erweiterte Fokus-Bildgebungstechnik bieten eine schnelle und genaue Erkennung verschiedener Arten von Fehlern, die eine gleichbleibende Produktqualität und höhere Erträge ermöglichen.
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