Gebraucht KLA / TENCOR SP1 #9185509 zu verkaufen

ID: 9185509
Weinlese: 1998
Wafer surface analysis system 1998 vintage.
KLA/TENCOR SP1 ist eine eigens für die Masken- und Waferinspektion entwickelte Ausrüstung. Das System ist mit einer Mehrwinkel-Beleuchtungsquelle, optischen Zusatzkomponenten und einer maßgeschneiderten Vision-Mapping-Schaltung ausgestattet. Darüber hinaus verfügt das Gerät über erweiterte Fähigkeiten, die eine präzise Abbildung der Wafergewebe ermöglichen. Die Maschine verfügt über ein präzises optisches Handhabungswerkzeug, das den Wafer im bildgebenden Feld des Objekts genau ausrichtet. Dies ermöglicht die präzise Abbildung der Wafermuster und bietet eine hervorragende räumliche Auflösung. Die Mehrwinkel-Beleuchtungsquelle bietet Anordnungen von Beleuchtungswinkeln über ein breites zweidimensionales Feld, wobei jede Quelle unterschiedliche Intensitäten bietet. Dadurch kann das Modell Bilder mit konstanter Beleuchtung aufnehmen und bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit. Die Vision Mapping Schaltung der Ausrüstung ist eine maßgeschneiderte Schaltung für die mikroskopische Abbildung der Wafer Muster. Die Schaltung ist in das System integriert und ermöglicht die präzise Erfassung von Bilddaten aus den Wafermustern. Darüber hinaus bietet die Schaltung auch die Flexibilität, die Parameter des Bilderfassungsprozesses zu steuern. Das Gerät verfügt auch über eine motorisierte Wafer Handhabungsmaschine, um die Überprüfung von Wafern mit verschiedenen Formen und Größen zu ermöglichen. Dieses automatisierte Tool ermöglicht eine schnelle und effiziente Verifizierung von Wafermustern. Das Asset ist zudem mit einem umfassenden Datenerfassungs- und Analysepaket integriert, mit dem Anwender die Bilddaten in einer sicheren Datenbank analysieren und speichern können. Darüber hinaus umfasst die KLA SP1 eine umfassende Palette von Software-Tools zur Verbesserung des Bildgebungs- und Datenanalyseprozesses. Die Software ermöglicht es Benutzern, verschiedene Aufgaben wie Ausrichtung, Analyse, Ebenenüberprüfung und Mustervergleich auszuführen. Das Modell ist auf Benutzerfreundlichkeit ausgelegt und ist eine effiziente und zuverlässige Lösung für die Inspektion und Verifizierung von Wafern und Masken.
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