Gebraucht KLA / TENCOR SP1 #9293262 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die verwendet wird, um Oberflächenfehler wie Partikel, Kratzer oder Nadelöcher auf Wafern oder Photomasken zu erkennen. Das System ist mit einer Kombination aus Inline-Messtechnik, Inspektion und Überprüfungsfunktionen nach der Inspektion konzipiert. Es überlagert eine Helligkeitsfeldbeleuchtung mit Dunkelfeldbeleuchtung und bietet eine verbesserte Kontrast- und Fehlererkennung in einer Vielzahl von Winkeln, um die höchste Empfindlichkeit zu erzeugen. Das Gerät verwendet einen doppelseitigen Zweistrahl-Laser-Scan und LED-Lichtquellen mit mehreren Wellenlängen, um eine vollständige dimensionale Gleichmäßigkeit und Inspektionsfähigkeit zu gewährleisten. Es ist mit einer fortschrittlichen Inspektions-/Messtechnik-Bearbeitungsmaschine (IMP) ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, verschiedene Messungen und Inspektionsmodule auf ihre spezifischen Prozessanforderungen anzuwenden. Der zum Patent angemeldete 5x Solid-State-Laser-Scanner verwendet eine zweimal herumliegende ophthalmische Scan-Technik, um eine hohe Messgeschwindigkeit und Datengenauigkeit zu erreichen. Um die Genauigkeit zu gewährleisten, verwendet KLA SP1 ein automatisiertes Vollfeld-Bildgebungstool sowie mehrere fortgeschrittene Algorithmen zur Fehlererkennung und -analyse. Es umfasst erweiterte Bildverarbeitung und die Anwendung von 3D-Bildverarbeitungsalgorithmen zur Verbesserung der Fehlererkennungsfunktionen. Darüber hinaus umfasst das Asset erweiterte Software-Tools, um zusätzlichen Wert zu bieten, wie genaue Lokalisierung, Größenänderung und Klassifizierung von Fehlern. Der hochfeste TENCOR SP 1 verfügt über Umweltkammern für extreme Temperaturen, Gas- und Feuchtigkeitskontrolle. Es ist auch mit einem schienengebundenen Luftmesser mit hoher Amplitude ausgelegt, das vor der Untersuchung ultrafeine Partikel entfernt. Das Modell ist hocheffizient und bietet dank automatisierter Fehlerüberprüfung Komfort und schnelle Analysen. Das 32-Last-APC-Modul und die fokussierten Schaltungsoptionen ermöglichen eine hohe Produktivität und Fehleranalyse auf einem einzigen Wafer. Insgesamt ist SP 1 eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage, die den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiterherstellung gerecht wird. Das System bietet aufgrund seiner erweiterten Verarbeitungsfunktionen, bildgebenden Funktionen und Überprüfungsfunktionen nach der Inspektion eine hohe Genauigkeit und Qualitätskontrolle. Es ist ein unschätzbares Werkzeug in der Halbleiterindustrie, um eine optimale Produktqualität und -prozesse zu gewährleisten.