Gebraucht KLA / TENCOR SP2 #9167412 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP2 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die Hochgeschwindigkeits- und Hochauflösungsbilder von Halbleitermasken und Waferoberflächen ermöglicht und eine hochempfindliche Fehlererkennung ermöglicht. Das System ist in der Lage, ein oder zwei vollständige Wafer pro Scan zu scannen, mit der Fähigkeit, zwischen einzelnen Wafer-Scans und vollständigen Wafer-Inspektionen zu wechseln. Dieses Gerät verfügt über vier Hauptkomponenten - eine Lichtquelle, eine Kamera, eine Optikkammer und eine benutzerdefinierte Bildgebungssoftware. Die Lichtquelle ist ein kundenspezifisches LED-Array, das aus drei verschiedenen Wellenlängen besteht. Diese Anordnung ermöglicht eine gleichmäßige, aber hochintensive Beleuchtung, so dass die Bildqualität bei verschiedenen Belichtungsbedingungen konstant bleibt. Die Kamera für KLA SP-2 ist ein Rückbeleuchter-CCD-Abbildungs-Array. Es wurde entwickelt, um die Empfindlichkeit gegenüber verschiedenen Ebenen der Maskentransparenz und Reflektivität zu maximieren. Dies ermöglicht eine kontrastreiche Bildgebung, wodurch die Maschine eine Vielzahl von Defekten und anderen Eigenschaften der Probenoberfläche erkennen kann. Die Optikkammer filtert unerwünschte Low-Level-Lichtquellen aus Kamera und Bild heraus und sorgt gleichzeitig für einen effektiven Fokus der Kamera. In Verbindung mit dem einzigartigen Beleuchtungsaufbau des Werkzeugs dient diese Optikkammer auch zur Steuerung der Schärfentiefe des Materials, wodurch der Benutzer je nach Anwendung eine flache oder tiefe Schärfentiefe auswählen kann. Schließlich wurde die Software TENCOR SP 2 entwickelt, um die vom Modell erzeugten Bilder schnell und genau zu verarbeiten. Es enthält eine Vielzahl von Bildverarbeitungsalgorithmen, einschließlich Fehlererkennung, automatisches Nähen, Bildregistrierung und Aberrationskorrektur. Die Software ermöglicht es Benutzern auch, ihre Analyse weiter anzupassen, so dass sie spezielle Algorithmen auf bestimmte Muster oder Funktionen auf der Probenoberfläche anwenden können. Insgesamt ist KLA/TENCOR SP-2 eine extrem leistungsstarke Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die Anwendern eine genaue und hochauflösende Abbildung ihrer Halbleiterproben ermöglicht. Mit seinen vielseitigen Optikkammern, einem effizienten LED-Beleuchtungsarray und fortschrittlichen Bildverarbeitungsalgorithmen ist das System in der Lage, eine breite Palette von Fehlern und Funktionen bis zum Sub-Mikrometer-Niveau zu erkennen.