Gebraucht KLA / TENCOR SP2 #9232738 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP2 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionssystem für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Mit der fortschrittlichen Single Photon-Zähltechnologie bietet KLA SP-2 eine umfassende Lösung zur Fehlererkennung und -prüfung für Masken und Wafer. TENCOR SP 2 besteht aus einem speziellen Teilsystem der Maskeninspektion und einem Teilsystem der Wafersubstratinspektion. Jedes dieser Subsysteme ist mit integrierten Bildgebungs-, Bildgebungs-, Beleuchtungs- und Software für die Fehleranalyse ausgestattet. Die bildgebenden Scanner ermöglichen eine hochauflösende Bildgebung mit dynamischen Fokus- und Krümmungsmessfähigkeiten, die eine hohe Genauigkeit des Bildvergleichs ermöglicht. Die Beleuchter sorgen für eine hoch beschleunigte Beleuchtung, die maximale Inspektionsgeschwindigkeit ermöglicht und die Fehlererkennung optimiert. SP2 verfügt auch über eine fortschrittliche Bildgebungssoftware zur automatisierten Fehlererkennung und Fehlerklassifizierung. Diese Softwareanwendungen dienen der Identifizierung gängiger Arten von Prozessentwicklungs- und Fehleranomalien sowie Fehlern durch unsachgemäße Fertigung oder Gerätefehler. Darüber hinaus ist die bildgebende Software sowohl mit SEM- als auch mit TEM-bildgebenden Technologien kompatibel und ermöglicht eine schnelle und genaue Fehlererkennung. Um den Durchsatz zu maximieren, verfügt SP-2 über eine mehrschichtige, vollautomatische Scanfunktion. Diese automatisierte Scanfunktion ermöglicht die gleichzeitige Inspektion und Analyse mehrerer Masken-/Wafer-Scheiben, wodurch die Inspektionsgeschwindigkeit deutlich erhöht und die Masken-/Wafer-Fehlerabdeckung verbessert werden kann. KLA SP2 beinhaltet auch eine integrierte Benutzeroberfläche zur Masken- und Wafer-Charakterisierung. Diese Benutzeroberfläche bietet eine effiziente Visualisierung, Vergleich und Analyse von Bildern, sodass Benutzer die Maske/den Wafer schnell für die Produktion überprüfen und optimieren können. Darüber hinaus verfügt das System über eine Reihe von Statistiken, Bildmanipulations- und Analysetools, um eine maximale Prozesskontrolle und Produktzuverlässigkeit zu gewährleisten. Schließlich umfasst das TENCOR SP-2 System ein erweitertes Datenerfassungs- und Statistikwerkzeug, das eine detaillierte Protokollierung und Analyse von Fehlertypen und -größen ermöglicht. Diese Funktion ermöglicht eine punktgenaue Fehleranalyse, ermöglicht detaillierte Ursachenanalysen und eine verbesserte Entscheidungsfindung im Produktionsprozess. Insgesamt bietet TENCOR SP2 eine ideale Lösung für die Masken- und Waferinspektion und bietet automatisiert und effizient umfassende Fehlererkennungs- und Charakterisierungsfunktionen.