Gebraucht KLA / TENCOR SP3 SURFSCAN #9115616 zu verkaufen

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ID: 9115616
Weinlese: 2012
Wafer inspection system Specification: Main laser: 500 - 550mW, 266nm DUV (deep ultra violet) diode laser, class 4 Edge scan laser: 7mW, 64 nm Diode Laser, Class 3B 2 PMTs Software version NGS 6.10.6231 Software IMC version 2.20.6231 Optics modules: Beam expander and attenuator (BEA) module Beam steering and shaping (BSS) module Spot size changer (SSC) module Illumination module Auto focus system (AFS) Mask changer IMC (Image computer): digital signal processing (DSP) by off system computers Edge handling with 2 Shinko loadport & Yaskawa robot KLARF compatibility 450mm extendibility Optics purge N2 E84/OHT compatible No bright field option 2012 vintage.
KLA/TENCOR SP3 SURFSCAN ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die entwickelt wurde, um Fehler bei der Herstellung integrierter Schaltungen schnell und genau zu erkennen. Es bietet hohe Auflösung, schnelles Scannen, volle Automatisierung und einfache Integration mit anderen Systemen. Das KLA SP3 SURFSCAN-System bietet eine automatisierte Oberflächenprüfung und Mikrooberflächenmesstechnik mit Hochleistungs-, Hochgeschwindigkeits-Probenahme- und Messfähigkeiten in einer einzigen Lösung. TENCOR SP3 SURFSCAN umfasst ein automatisiertes und hochleistungsfähiges optisches Mikroskop, eine motorisierte Bühne und eine leistungsstarke Bildgebungs- und Analysemaschine. Durch die Kopplung aktiver Entfernungs- und Messtechnologien mit hochauflösender Bildgebung nehmen Surfscan-Lösungen die Probenahme auf ein Maß an Genauigkeit und Geschwindigkeit, das bisher unmöglich war. SP3 SURFSCAN Mikroskope verfügen über Hochleistungs-Objektive mit Arbeitsabständen bis 200 mm und bieten eine außergewöhnliche Genauigkeit und Auflösung. Das leistungsstarke Bildgebungs- und Analysewerkzeug beschleunigt die Erkennung und Klassifizierung von physikalischen, elektrischen und chemischen Defekten und ermöglicht eine schnelle und genaue Erkennung und Reparatur von Defekten. KLA/TENCOR SP3 SURFSCAN asset unterstützt auch eine breite Palette von Wafer-Materialtypen, darunter plattierte Stahl-, Kunststoff- und Glasoberflächen. Darüber hinaus unterstützt es eine Vielzahl von Musterprozessen, einschließlich Photoprozessen. Es wurde auch entwickelt, um nasse und trockene Prozesse zu unterstützen, die häufig für nanoskalige Prozesse verwendet werden. KLA SP3 SURFSCAN bietet auch integrierte optische Test- und Messtechnik-Tools, die Resistivity Mapping, CD- und Rauheitsmessung sowie 3D-Mapping umfassen. Diese Werkzeuge ermöglichen eine schnelle Charakterisierung von Geräten und bieten Endanwendern die Möglichkeit, Änderungen in den Geräteeigenschaften während des Herstellungsprozesses von ICs genau zu messen. Die integrierten optischen Test- und Messtechnikwerkzeuge ermöglichen eine schnellere und präzisere Fehlererkennung und Prozessmustererkennung. Darüber hinaus ermöglichen hochauflösende Bilderfassung und Fehlerklassifizierung es Benutzern, Fehler genau zu erkennen und zu beheben. Dies ermöglicht schnellere und präzisere Prozesse mit deutlich reduzierten Herstellungskosten. Schließlich bietet TENCOR SP3 SURFSCAN auch eine verbesserte Benutzererfahrung mit seiner intuitiven grafischen Benutzeroberfläche und bietet einen klaren Überblick über das, was vor sich geht. Die erweiterten Berichts- und Datenanalysefunktionen des Modells machen es einfach, Prozesse und Produktergebnisse auszuwerten und zu vergleichen. Die integrierte Workflow-Ausrüstung ermöglicht es Anwendern, Fortschritte effektiv zu verfolgen und zu überwachen und Qualitätsmessgrößen in Echtzeit anzuzeigen.
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