Gebraucht KLA / TENCOR SP3 SURFSCAN #9238001 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP3 SURFSCAN ist eine hochentwickelte Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung. Es ist das führende System für die Inspektion und Analyse von Photomasken und Wafern aller Größen. Diese Inspektionseinheit verwendet fortschrittliche optische Strahlabtasttechniken und ausgeklügelte Algorithmen, um Defekte von Mikrometern in der Größe bis hin zu Nanometern zu erkennen. Darüber hinaus bietet die Maschine eine Vollfeldfehleranalyse und Fehlerklassifizierung im Einklang mit Industriestandards. Das Hauptmerkmal dieses Tools ist seine erweiterten optischen Strahl-Scan-Funktionen. Dieses Element verwendet einen Lichtstrahl, um Masken und Wafer zu inspizieren und Anomalien zu erkennen. Der Strahl scannt linear und ist in der Lage, Fehler kleiner als 5 Mikrometer auf einem einzelnen Pixel zu erkennen. Diese Abtastrate ist viel höher als bei herkömmlichen Rasterelektronenmikroskopen, was eine umfassendere Fehlererkennung ermöglicht. Die ausgeklügelten Algorithmen des Modells identifizieren und klassifizieren alle erkannten Fehler. Es analysiert die Bilder und teilt Defekte in zwei Kategorien ein: Dunkelseiten und Lichtseiten. Diese Klassifizierung hilft Operatoren, den Test zu sehen und mögliche Ursachen zu identifizieren. Neben der Fehlererkennung und -klassifizierung können die Geräte auch für eine Vielzahl von Fehleranalysen nach dem Scan verwendet werden. Es umfasst Optionen wie bibliotheksbasierte intelligente Fehleranalyse und statistische Messungen von Fehlergröße, Standort, Morphologie und Fehlerverlauf. Zusätzlich kann es messtechnische Messungen an jedem Defekt simulieren. Dieses System ist auch in der Lage, eine Reihe von lithographischen Simulationen, Analysen und anderen optischen Messungen durchzuführen. Um komplexere Konstruktionen zu unterstützen, ist das Gerät in die neuesten Lithographie-Design- und Simulationswerkzeuge führender Industriehersteller wie Mentor Graphics und UCK integriert. Insgesamt ist die Masken- und Waferinspektionsmaschine KLA SP3 SURFSCAN ein zuverlässiges und hochgenaues Werkzeug zur Erkennung und Klassifizierung von Photomasken- und Waferdefekten aller Größen. Seine Kombination aus fortschrittlicher optischer Strahlabtastung, ausgeklügelten Algorithmen und Post-Scan-Fehleranalyse machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug für die Halbleiterherstellungsindustrie.