Gebraucht KLA / TENCOR SP3 #293636213 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP3 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die für die Erkennung von Hochleistungsmustern, Defekten und Fehlern für alle Sub-100nm-Prozessknoten entwickelt wurde. Das System ist mit branchenführender Bildverarbeitungs- und Signalverarbeitungshardware und -software ausgestattet, um sowohl einen hohen Signalkontrast als auch eine hohe Signalauflösung zu gewährleisten Die KLA- SP-3 verfügt auch über High-Speed Defect Review (HSDR), um kritische Fehler aus selbst hochauflösenden Gerätestrukturen zu erkennen und zu analysieren. TENCOR SP 3 verfügt über eine halbautomatische Einheit, die Präzisionsoptiken, Beamsplitter und CCDs mit fortschrittlichen bildgebenden Algorithmen für eine leistungsstarke und sensible Inspektion komplexer Wafer-Topographien kombiniert. Sein Source-Mask-Image (SMI) -Algorithmus ist in der Lage, subtilere Defektmerkmale zu erkennen, als für den Bediener visuell wahrnehmbar. Dies reduziert die Inspektionszeit und bietet eine überlegene Fehlererkennungsgenauigkeit. SP-3 verfügt auch über einen patentierten Architecture-Aware Algorithmus (A3), der fortschrittliche Mustererkennung und Computer-Vision-Algorithmen verwendet, um Masken-Layout-Funktionen mit Hilfe einer Viewer-Schnittstelle schnell zu ermitteln und zu identifizieren. Der Viewer bietet eine Remote-grafische Benutzeroberfläche mit der Möglichkeit, Daten schnell zu ändern und zu analysieren. Die erweiterten Automatisierungsfunktionen der TENCOR SP3-Maschine ermöglichen es Benutzern, eine Vielzahl von angepassten Parametereinstellungen und Standortstrategien zu programmieren. Dies reduziert die Zeit, die benötigt wird, um Muster abzulehnen und falsch positive Fehler zu minimieren. Das Tool verfügt über ein leistungsstarkes Defect Classification-Modul, das Maskenlayoutfehler automatisch in zwei Hauptkategorien überprüft und kategorisiert - echte Defekte und prozessbezogene Defekte. Diese Funktion erleichtert es Anwendern, mögliche Probleme mit kritischen Fehlern schnell zu identifizieren und Korrekturmaßnahmen zu ergreifen, bevor der Herstellungsprozess gestartet wird. SP3 verfügt auch über eine integrierte Sauberkeit und Analytical Asset, die anspruchsvolle Kontaminationserkennungstechnologie für Partikel und Stände integriert. Das Modell kann praktisch alle Arten von Defekten bis zu 40nm erkennen, einschließlich Kontamination durch organische und metallische Folien, Delamination und sogar biologische Kontamination. KLA/TENCOR SP-3 ist ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionswerkzeug, das fortschrittliche Bildgebungs- und Signalverarbeitungstechnologien mit schnellen, genauen Fehlererkennungs- und Analysefunktionen kombiniert. Überlegene Leistung, Flexibilität, schnelle Zykluszeiten und automatisierte Funktionen machen KLA SP 3 zu einer idealen Lösung für die Erkennung von Hochleistungsmustern, Fehlern und Fehlern an Prozessknoten unter 100 nm.