Gebraucht KLA / TENCOR SP3 #9183008 zu verkaufen

KLA / TENCOR SP3
ID: 9183008
Wafergröße: 12"
Weinlese: 1998
Wafer particle counter, 12" 2012 vintage.
KLA/TENCOR SP3 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage für die Halbleiterindustrie. Dieses System verwendet hochleistungsfähige optische und bildgebende Systeme, um den Inspektionsprozess für Wafer, Masken und Linsen zu automatisieren. Das Gerät enthält mehrere Komponenten, darunter eine optische Plattform, Bildanalyse- und Bildverarbeitungskomponenten und erweiterte Touchscreen-Datenüberprüfung. Die KLA- SP-3 basiert auf einem hochauflösenden, voll aufgeladenen Geräte-Imaging-CCD mit bis zu 13K Pixelauflösung, das hochauflösende Bilder von Wafer, Masken, Linsen und anderen Komponenten erzeugt. Neben der Erfassung hochwertiger Bilder von Geräten kann TENCOR SP 3 auch Fehlerbilder erfassen und den Stempelvergleich mit einem Referenzmuster vornehmen. Auf diese Weise kann die Maschine den Standort, den Typ und die Größe von Fehlern erkennen, die die Waferleistung beeinträchtigen können. Das Tool ist mit einer leistungsstarken Bild- und Datenüberprüfungsoberfläche ausgestattet, die Benutzern eine echte grafische Umgebung zur Überprüfung und Kommentierung der Waferleistung bietet, einschließlich Trendplots und CD-Maps. Diese fortschrittliche Technologie umfasst benutzerfreundliche Funktionen wie SmartDefect Recognition und Fehlerklassifizierung, um Fehlereigenschaften schnell zu erkennen und zu analysieren. Das Asset umfasst auch eine integrierte Fehlerbibliothek und leistungsstarke Software-Algorithmen, die Anwendern eine schnelle und genaue Analyse von Wafern und Masken ermöglichen. KLA/TENCOR SP 3 kombiniert fortschrittliche Bildgebungstechnologie mit benutzerfreundlichen Touchscreen-Funktionen und höchst intuitiver Benutzeroberfläche. Mit der komfortablen Benutzeroberfläche des Modells können Anwender schnell auf Inspektionsergebnisse von jedem Punkt der Produktionslinie aus zugreifen, in jedem Maßstab, um grafische Präsentationen einfach zu verstehen. Alle in der Ausrüstung enthaltenen Komponenten entsprechen den Industriestandards für Sicherheit und Genauigkeit. KLA SP3 ist ein revolutionäres Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das Halbleiterherstellern die effektivste, genaueste und zuverlässigste Möglichkeit bietet, Fehler in Wafer-, Masken- und Linsenkomponenten zu erkennen, zu analysieren und zu reparieren. Das Gerät verfügt über robuste Bildgebungs- und Datenüberprüfungsfunktionen, so dass es detaillierte Informationen über Fehlereigenschaften für maximale Kosteneinsparungen und verbesserte Geräteleistung bereitstellen kann.
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