Gebraucht KLA / TENCOR SP3 #9236215 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP3 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die eine umfassende und genaue Bewertung von Masken- und Waferdefekten ermöglicht und eine korrekte und rechtzeitige Korrektur ermöglicht. Das System besteht aus einem optischen Mikroskopkopf, einem Laserstrahl und photoelektrischen Detektoren zur Erkennung und Messung von Defekten. Die Mikroskopkopffunktionen umfassen automatische Bildaufnahme, Fehlererkennung und automatische Klassifizierung. Der Laserstrahl dient zur schnellen Erkennung und Identifizierung von Defekten mit hoher Genauigkeit und die photoelektrischen Detektoren liefern klare und scharfe Bilder des Wafers und der Masken. Das Gerät erstellt detaillierte Berichte über Wafer- oder Maskenfehler, die Messwerte für Fehlergröße, Form, Neigung und Tiefe umfassen. Die Maschine ist mit einem Host-Inspektions- und Messtechnik-System verbunden, das Echtzeit-Management von Fehlerinformationen und -analysen ermöglicht. Das Tool enthält auch leistungsstarke Visualisierungstools, die eine einfache Darstellung von Fehlern ermöglichen. Dies kann verwendet werden, um die Analyse und Identifizierung von Mängeln zu erleichtern und um Abhilfemaßnahmen zu unterstützen. Die Anlage wurde entwickelt, um hohe Effizienz und schnelle Turnaround der Inspektion und Analyse mit minimalem Benutzereingriff zu gewährleisten. Das Modell ist auch aktualisierbar und verfügt über automatisierte Kalibrier-, Ressourcen- und Zeitsparfunktionen. KLA SP-3 Ausrüstung ist in der Lage, bis zu 150 mm Wafer zu betreiben und kommt mit einer Vielzahl von Optionen, einschließlich Filter, Linsen und ermöglicht für verschiedene Ebenen von Inspektionen geeignet. Die konfigurierbare Rezepttechnologie sorgt für die optimale Leistung für eine Vielzahl von Anwendungen. Die fortschrittliche Programmierung von TENCOR SP 3 ermöglicht es, verschiedene Bedingungen zu simulieren und alle Arten von Defekten zu erkennen, von Oberflächenschnitten bis zu gestapelten Masken. Das System verfügt über integrierte Intelligenz, die genaue Ergebnisse für die Prüfung von Wafern mit hohem Volumen liefert und eine hohe Präzision für kritische und komplexe Fehler gewährleistet. KLA SP3 ist sehr zuverlässig und benutzerfreundlich mit intuitiver Navigation und Steuerung. Es bietet eine umfassende Palette von Fehler- und Wafer-Analyselösungen, die eine bessere Prozesskontrolle, eine schnellere Herstellung und eine verbesserte Effizienz ermöglichen.