Gebraucht KLA / TENCOR SP3 #9312910 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP3 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage für die Halbleiterherstellung. Es ermöglicht Herstellern, Fehler in Halbleiterstrukturen und Substraten bis zu einer Auflösung von bis zu 0,5 µm schnell und genau zu erkennen, was zu deutlich verbesserten Produktausbeuten führt. Das System nutzt modernste Rasterelektronenmikroskop (SEM) und Lasertechnologie, um sowohl Top-down als auch Querschnittsbilder des Wafers oder der Maske zu erfassen und zu inspizieren. Es verwendet einen hochauflösenden Detektor, um eine breite Palette von Bildern zu erfassen, von der hohen Vergrößerung bis zur Übersicht. Mit seiner konfokalen Laser-MO-Bildgebung ist KLA SP-3 in der Lage, selbst die kompliziertesten Funktionen wie Masken und mehrschichtige Oxidschichten zu erfassen. Das Gerät ist auch mit leistungsstarken Fehlererkennungsalgorithmen ausgestattet, die eine Vielzahl von Defekten erkennen können, einschließlich axialer Ausrichtung, Dotierung, Musterverschiebung, Partikel, Kratzer und Hohlräume. Es nutzt eine Kombination aus herkömmlichen bildgebenden Technologien wie Kontrastdetektion, Leuchtentladungsbildgebung und Rasterelektronenmikroskopie, um selbst kleinste Defekte zu erkennen. Die Maschine ist auch mit anspruchsvollen Reverse Engineering-Fähigkeiten ausgestattet. Es kann die Prozessschritte verfolgen, die ein Feature erstellen, und dann die zugrunde liegende Produktions- oder Konstruktionsabsicht mithilfe von Eingaben von Reverse Engineers aus dem Engineering-Team des Kunden dekodieren. Darüber hinaus verfügt TENCOR SP 3 über eine Bibliothek von Process Board Layouts, mit denen das Werkzeug die Musterdetails aller Boards in der Produktionslinie analysieren und aufzeichnen kann. Es bietet auch eine detaillierte Überprüfung der Lithographie-Variationen, so dass Hersteller Prozessvariationen schnell erkennen können, um entsprechende Korrekturanpassungen vorzunehmen. Darüber hinaus verfügt KLA/TENCOR SP 3 über eine wertvolle integrierte Bibliothek statistischer Trendanalyse- und Berichtsfunktionen, mit der Prozesse und Trends im Laufe der Zeit überwacht werden können. Schließlich umfasst das Asset die Workflow-Automatisierungstechnologie. Dadurch erkennt das Modell automatisch betriebsbedingte Abstandsstellen in der Produktion und warnt den Hersteller auf die Notwendigkeit einer Reaktion. Die Automatisierung hilft, die Gesamtinspektionszeiten zu reduzieren und den Ertrag zu erhöhen. Insgesamt ist KLA SP3 eine fortschrittliche, hochmoderne Lösung zur Masken- und Waferinspektion und Prozessoptimierung. Es bietet eine zuverlässige und genaue Möglichkeit, kleine Defekte zu erkennen, Prozessvariationen zu ermitteln und Trends in der Produktion im Laufe der Zeit zu analysieren.