Gebraucht KLA / TENCOR Spectra CD 100 #9269260 zu verkaufen

KLA/TENCOR Spectra CD 100 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung von Defekten und anderen Unregelmäßigkeiten in Photomasken und Wafern. Es verfügt über einen mehrachsigen optischen Kopf, der eine automatisierte dreidimensionale Bildgebung, detaillierte Fehlerinspektion und Datenanalyse ermöglicht. Das System ist mit einer High-End-Optik-Suite und einem erweiterten Fehlererkennungsalgorithmus ausgestattet, der es ermöglicht, auch kleinste Fehler an einer Maske oder einem Wafer zu erkennen. KLA Spectra CD 100 verwendet die proprietäre „Electron Beam Inspection“ (EBI) -Technik, um Masken- und Waferoberflächen auf Defekte zu untersuchen. Bei dieser Technik wird ein Rasterelektronenstrahl verwendet, um ein topographisches Bild der Maske oder Waferoberfläche zu erzeugen, das dann zur Erkennung und Quantifizierung von Defekten verwendet werden kann. TENCOR SPECTRACD 100 kann eine Auflösung von bis zu 0,2 μ m erreichen, so dass es in der Lage, auch die kleinsten Fehler zu erkennen. Neben den Fehlererkennungsfähigkeiten der Einheit bietet Spectra CD 100 auch eine detaillierte Analyse der Masken- und Waferoberflächen. Es bietet dreidimensionale Bildgebungs- und Oberflächenprofilierungsfunktionen, mit denen Benutzer die Oberflächen in der Tiefe visualisieren und analysieren können. Die Maschine bietet auch einen Durchsatz von bis zu 500 Wafern/Stunde und verfügt über verschiedene Werkzeuge, mit denen sie Kosten senken und die Produktion verbessern kann. Das Werkzeug wurde entwickelt, um die erforderlichen Standards (JEDEC, SEMI und MIL-STD) der Halbleiterindustrie zu erfüllen. Es bietet eine umfassende Suite von Software-Tools, mit denen Benutzer Daten von bis zu 1000 Wafern pro Stunde analysieren können. Die Software umfasst umfassende Berichtsfunktionen, Echtzeit-Fehleranalysen, selbstüberwachende Sensoren und mehrere Benutzeranmeldungen. KLA/TENCOR SPECTRACD 100 ist eine ideale Wahl für die Inspektion von Masken und Wafern in der Halbleiterindustrie. Es gewährleistet eine hohe Genauigkeit, Kosteneinsparungen und einen verbesserten Produktionsdurchsatz und ist somit eine gute Wahl für die Masken- und Waferinspektion.