Gebraucht KLA / TENCOR Spectra CD 100 #9399340 zu verkaufen

KLA/TENCOR Spectra CD 100 von KLA ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur Erkennung mikroskopischer Defekte und Kontamination in Halbleiterprozessschichten. Es verwendet fortschrittliche Algorthmen, um alle Aspekte von Masken, Wafern und Dielektrika genau und zuverlässig zu überprüfen. Das System kombiniert empfindliche optische und bildgebende Technologien, um mögliche Prozessprobleme und Partikelverunreinigungen schnell und präzise zu identifizieren. Die integrierten Detektionsalgorithmen bieten eine genaue Klassifizierung der detektierten Partikel. Die Optik des Geräts ist hocheffizient und ermöglicht sowohl eine kontrastreiche Bildgebung als auch die Erkennung kleiner Defekte und geringer Verschmutzungen. Die Anwendung fortschrittlicher optischer Hardware und Software führt zu einer schnelleren und qualitativ hochwertigeren Prozessoptimierung. KLA Spectra CD 100 ist mit Bühnentechnologie ausgestattet, die das Scannen großer Oberflächen in einem einzigen Scan ermöglicht. Mit seiner überlegenen Translations- und Rotationsgenauigkeit erhält die Maschine eine große Anzahl von Bildern aus jedem Wafer. Die leistungsstarke Software ist mit einer Reihe von anpassbaren Berichtsformaten ausgestattet, die eine individuelle Berichterstattung auf Basis spezifischer Anwendungen ermöglichen. Das Werkzeug kann auch konfiguriert werden, um eine Vielzahl von Anomalien und möglichen Defekten zu erkennen und zu analysieren. Das Masken- und Wafer-Inspektions-Toolkit (MWIT) verfügt über mehrere Modi, einschließlich Full-Die und Spectral Imaging. Mithilfe der spektralen Bildgebung kann das Asset einzelne Partikel, kleine Staubpartikel und Spillover auch auf größeren Oberflächen erkennen und klassifizieren. Die fortschrittliche und benutzerfreundliche Software bietet auch Analysetools zum Interpretieren, Visualisieren und Organisieren von Messdaten. Die Software kann automatisierte Berichte sowohl im grafischen als auch im pdf-Format generieren. TENCOR SPECTRACD 100 ist ideal für Design und FA-Anwendungen. Mit seiner zuverlässigen und genauen Leistung eignet es sich zum Nachweis von Partikelverunreinigungen, Schmier- und Registrierungsproblemen bis hin zur Auflösung auf Sub- und Nanometerebene. Die erweiterten Optik- und Bildgebungsfunktionen können kleine Defekte auch in Bereichen mit schwachem Kontrast erkennen. Dieses leistungsstarke Modell ist schnell, zuverlässig und bietet Anwendern eine wirtschaftliche Lösung, um die Prozessentwicklung voranzutreiben und die Möglichkeiten der Masken- und Waferinspektion zu verbessern.