Gebraucht KLA / TENCOR Spectra CD #9251386 zu verkaufen

KLA/TENCOR Spectra CD ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die ein Höchstmaß an automatisierter, integrierter Fehlererkennung und Fehlerklassifizierung bietet. Es bietet 3D-Oberflächen- und Overlay-Messtechnik, Fehlerbildgebung und -überprüfung, Widerstandsprofilierung und systematische Fehlerklassifizierung. Dieses System soll Maskenläden und integrierten Geräteherstellern (IDMs) dabei helfen, die Erträge zu verbessern und gleichzeitig die für die Inspektion von Masken und Wafern erforderlichen Humanressourcen zu minimieren. KLA Spectra CD-Einheit ermöglicht eine präzise, automatisierte Ausrichtung des Wafers oder der Maske, so dass die bestmöglichen Ergebnisse erzielt werden können. Diese Ausrichtung umfasst automatisierte Stiche mehrerer Bilder, um sicherzustellen, dass Fehler genau identifiziert werden können, unabhängig von ihrem genauen Standort. Darüber hinaus kann die Maschine Fehler bei sehr niedrigen Schwellen erkennen und klassifizieren, so dass die höchste Genauigkeit in ihrer Analyse ermöglicht wird. Das Tool verwendet automatisierte Vision-basierte Erkennungs- und 3D-Analysetechnologien, um Fehler von der Maske und den Waferoberflächen zu messen und zu klassifizieren. Mit fortschrittlichen Filtern und Automatisierungstools kann das Asset schnell Partikel-, Void- und Liniendefekte auf Masken- und Waferoberflächen identifizieren. Sobald Fehler erkannt wurden, kann sie diese dann in verschiedene Merkmalsarten wie Peeling und Deformation unter anderem einordnen, wodurch die Fehlerarten auf einem bestimmten Substrat vollständig verstanden werden. Darüber hinaus bietet das TENCOR SPECTRACD-Modell automatisierte Resistprofilmessung und Vergleichsmöglichkeiten. Auf diese Weise können Anwender die Dicke verschiedener Schichten messen und vergleichen und so unschätzbare Informationen bereitstellen, um Prozesse zu optimieren und die Ausbeute zu erhöhen. Das Gerät ist auch mit fortschrittlichen flexiblen Bildgebungstechnologien ausgestattet, einschließlich Epi, Dunkelfeld und Hellfeld-Fähigkeiten, die den Benutzern eine echte visuelle Darstellung dessen geben, was auf den Masken und Wafern geschieht. KLA SPECTRACD-System integriert mit anderen Systemen, wie Betriebs- und Prozessleitsystemen, um ein höheres Maß an Automatisierung und Konsistenz zu gewährleisten. Es unterstützt auch das Tracking und Reporting von Fehlerverläufen, so dass Prozessergebnisse im Laufe der Zeit verfolgt werden können, was die Ertragsoptimierung weiter verbessert. Insgesamt ist SPECTRACD eine beeindruckende und hochqualitative Einheit zur Masken- und Waferinspektion. Mit seinen hochentwickelten und automatisierten visionsbasierten Erkennungs- und 3D-Analysefunktionen sowie seinen flexiblen Bildgebungstechnologien bietet es die höchstmöglichen Ertragsverbesserungen und Fehlererkennungen. Darüber hinaus ist die automatisierte Ausrichtung, Fehlerklassifizierung, Resistprofilmessung und Integration eine ideale Wahl für jedes Maskenunternehmen oder IDM, das die Erträge und Konsistenz verbessern möchte.