Gebraucht KLA / TENCOR STARlight 301 #116791 zu verkaufen

KLA/TENCOR STARlight 301 ist eine leistungsstarke und vielseitige Masken- und Waferinspektionsanlage zur Inspektion integrierter Schaltungen und Photomasken. Das KLA STARlight 301-System umfasst sowohl Wafer- als auch Maskeninspektionsmöglichkeiten und eignet sich somit ideal zur Erkennung von Defekten, zur Identifizierung von Teilenummern und -etiketten und zur Gewinnung statistischer Daten. Das Gerät verfügt über eine breite Palette von Schussgröße und Feldgröße Optionen, so dass es ein hohes Maß an Geschwindigkeit und Genauigkeit zu liefern, auch wenn komplizierte Funktionen überprüft werden. Die erweiterten bildgebenden Funktionen und die integrierte Funktionsbibliothek unterstützen die Prüfung von Fehlern in feineren und komplizierteren Funktionen. Darüber hinaus ermöglicht die KLA-Software den Anwendern, die Prüfergebnisse auf ihre spezifische Anwendung abzustimmen. Die Maschine ist für verschiedene Muster, Substrate und Funktionsgrößen ausgelegt. Kostenlose Softwarepakete bieten die notwendigen Tools, um das Beste aus dem Tool herauszuholen, einschließlich Tools für die Waferausrichtung, Fehlerbewertung und Datenberichterstattung. TENCOR STARlight 301 bietet darüber hinaus sowohl Online- als auch Offline-Programmiermöglichkeiten sowie fortschrittliche Ausrichtungslösungen für ein schnelles und zuverlässiges Setup. STARlight 301 bietet Anwendern eine Vielzahl von Inspektionstechniken. Von der Hochgeschwindigkeits-Querschneidung bis zur ultrahohen Vergrößerungs-Bildgebung hat dieses Gut die Fähigkeit, kleine Fehler zu erkennen, Merkmale bis zu 15 nm und andere Merkmale von entscheidender Bedeutung in der Halbleiterindustrie. TENCOR erweiterte Algorithmen liefern genaue und zuverlässige Ergebnisse, die dann in einem leicht lesbaren Format berichtet werden. Die Analyse-Engine ermöglicht es Ihnen, die Daten in verschiedenen Formaten anzuzeigen, was eine schnelle Entscheidungsfindung erleichtert und die Ergebnisse der End-of-Line-Validierung für die zukünftige Verwendung gespeichert werden. Zusammengefasst bietet KLA/TENCOR STARlight 301 erweiterte Möglichkeiten zur Masken- und Waferinspektion. Es verfügt über eine Reihe von Schuss- und Feldgrößen, die schnelle und genaue Inspektionen verschiedener Substrat- und Funktionsgrößen unterstützen. Die erweiterten Imaging-Funktionen und Softwarepakete bieten Benutzern die Werkzeuge, die sie benötigen, um das Potenzial des Modells zu maximieren. Darüber hinaus verfügt dieses Gerät über die Fähigkeit, kleine Defekte zu erkennen, Funktionen wie 15 Nanometer klein und bieten online oder offline Programmierfunktionen.