Gebraucht KLA / TENCOR STARlight 301 #9049801 zu verkaufen

KLA/TENCOR STARlight 301 ist eine anspruchsvolle Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die speziell auf die hohen Präzisionsanforderungen von Halbleiterherstellern ausgelegt ist. Dieses System umfasst eine Reihe von Tools zur optischen Erkennung, Echtzeit-Bearbeitung, Überprüfung, Fehleranalyse und Berichterstattung, die die Einhaltung der strengsten Prozesskontrollen gewährleisten. KLA STARlight 301 bietet beispiellose Genauigkeit und Leistung für die Inspektion von gemusterten Substraten. Das fortschrittliche optische Teilsystem nutzt überlegene optische Komponenten und eine hochauflösende Bildaufnahmeeinheit, die hochwertige Bilder der Proben erfasst und digital anzeigt. Diese Bilder können dann genau auf das Vorhandensein von Defekten analysiert werden, was den Herstellern das Vertrauen gibt, optimale Erträge zu erzielen. Die Echtzeit-Bearbeitungsfunktionen der Maschine ermöglichen es Benutzern, jeden Bereich des Substrats fliegend zu überprüfen. Fortgeschrittene Fehleranalyse-Tools können verwendet werden, um mögliche mögliche Fehler, wie Kristallwachstum oder Adhäsionsprobleme, zu identifizieren und zu analysieren. Mit den Berichtsfunktionen lassen sich prozessinterne Ergebnisse einfach überwachen und verfolgen, Fehlerwerte verfolgen und mögliche Probleme melden. TENCOR STARlight 301 ist auch in der Lage, Tiefenscannen durchzuführen, ein Verfahren, das entwickelt wurde, um Fehler zu erkennen, die tief in einem Material oder Substrat vergraben werden können. Dies kann insbesondere bei der Inspektion von Halbleiterscheiben nützlich sein, bei denen Defekte aufgrund ihrer Größe oder Lage schwer zu erkennen sind. STARlight 301 ist einfach skalierbar, mit der Fähigkeit, Hunderte von Wafern oder mehrere Substrate in einem einzigen Lauf gleichzeitig zu inspizieren. Es ist unglaublich effizient und bietet erstklassigen Durchsatz und liefert dennoch genaue Ergebnisse. Zusätzlich wird das Tool mit überlegenem Kundenservice und kompromissloser Zuverlässigkeit unterstützt. Abschließend bietet KLA/TENCOR STARlight 301 überlegene Bildgebungs- und Analysefähigkeiten für die Inspektion von Substraten und Wafern. Es bietet Genauigkeit, Leistung und Fehleranalyse Werkzeuge notwendig, um die strengen Anforderungen der Halbleiterhersteller zu erfüllen. Sein skalierbares, effizientes Design sorgt für schnellen Durchsatz und zuverlässige Ergebnisse, alles ergänzt durch erstklassigen Kundenservice und unerbittliche Qualitätssicherung.