Gebraucht KLA / TENCOR STARlight SL3 UV URSA #9058370 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9058370
Inspection system, 6"
Automation:
KLA RF File format output
Klarity analysis
Automatic error recovery
System output:
Minimum output capability (Reticles per week):
0.25 um pixel size with 100 x 100 mm inspection area: 100
Minimum run rate (Reticles / Hour):
0.25 um pixel size for 100 x 100 mm inspection area: 0.7
0.375 um pixel size for 100 x 100 mm inspection area: 1.3
0.5 um pixel size for 100 x 100 mm inspection area: 1.9
Process capability:
Box handling
Manual load
NIKON Reticle, 6"
Upgraded to HR (High resolution)
Mask basic inspection capability:
OPC Inspection
APSM (DAP Design) Inspection
EPSM Inspection capability including EPSM and full ternary
Shifter transmission: ≤40% at 364 nm wavelength
Review capability:
Transmission review
Reflective review
On line review
Repeat review
Sizing capability
Offline view (Not classification)
Offline classification option
Show new defect capability
Recipe setup / Automation:
Auto setup capability
Light tower
Selectively inspect: Glass, pellicle or chrome surfaces
Maximum recipe setup time: 15 Minutes
Three level password protection capability: Operator, engineer & FSE
Continuous vs single-step operation capability
Auto loader cycling capability
Barcode reading capability
Networking capability
Auto operation capability with existing recipe
Minimum inspectable mask characteristics:
Minimum pitch larger than or equals to twice of the minimum line width:
Minimum inspectable main feature size (nm) at:
0.186 um pixel size (Option): 400
0.25 um pixel size: 500
0.375 um pixel size: 750
0.5 um pixel size: 1000
Minimum pitch larger than or equals to 2.5 times of the minimum chrome line width:
Minimum inspectable main feature size (nm) at:
0.186 um pixel size (Option): 220
0.25 um pixel size: 320
0.375 um pixel size: 560
OPC Features:
Minimum inspectable OPC serif / Inverse (nm): 200
Minimum inspectable OPC jog (nm): 14
Inspection characteristics:
Within tool matching: ≤5%
Tool to tool matching: ≤10%
False defect rate (Defects/cm²): 0.1
For inspection area > 10 cm²: 0.1
Sensitivity on pellicle @ 98% capture rate (nm): 4000
Sensitivity on glass @ 98% capture rate (nm):4000
Minimum pitch larger than/or equals to twice of the minimum line width:
Sensitivity on chrome @ 98% capture rate (nm) at 0.186um inspection pixel size
PSLs (Option) EPSM capture rate on shifter substrate @ 90.4%: 140
Sensitivity on chrome @ 98% capture rate (nm) at 0.25um
EPSM Capture rate on shifter substrate @ 90.4%: 180
Sensitivity on chrome @ 98% capture rate (nm) at 0.375um
Sensitivity on chrome @ 98% capture rate (nm) at 0.50um
Minimum pitch larger than or equals to 2.5 times of the minimum chrome line width:
Sensitivity on chrome @ 98% capture rate (nm) at 0.186um
Sensitivity on chrome @ 98% capture rate (nm) at 0.25um
Sensitivity on chrome @ 98% capture rate (nm) at 0.375 um
Inspection pixel size on reticle using PSLs: 350
Sensitivity on chrome @ 98% capture rate (nm) at 0.5 um
Inspection pixel size on a reticle using PSLs: 500
Exclusion zones:
Pelliclized plate:
Exclusion on chrome side (mm)
For 0.25um pixel or greater: 3.5
For 0.186um pixel: 5.5
Exclusion on pellicle (mm): 1
Exclusion on glass (mm): 3
Unpelliclized plate:
(3) Exclusion on 6" back glass
(3) Exclusion on 6" front side
1999 vintage.
KLA/TENCOR STARlight SL3 UV URSA ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die eine patentierte UV-Bildgebungstechnologie mit zwei Wellenlängen verwendet. Es entfällt die Notwendigkeit einer externen Lichtquelle, die eine direkte Abbildung des Wafers mit maximaler Abbildungsgenauigkeit und hohem Signal-Rausch-Verhältnis ermöglicht. KLA STARlight SL3 UV URSA ist für die automatisierte, eigenständige Inspektion von Masken- und Waferanwendungen konzipiert, einschließlich Wafer-Bump-Inspektion, Litho/Etch-Inspektion, Photomaskeninspektion, Overlay-Inspektion und verschiedenen Defekterkennungs- und Klassifizierungsaufgaben. Das System basiert auf einem vollautomatischen, ein- und zweiwelligen UV-Bildverarbeitungsmotor mit einem großen Sichtfeld von bis zu 17cm x 17cm. Es stellt die notwendige UV-Beleuchtung zur Verfügung, die für die UV-Bildaufnahme erforderlich ist. Die starre Konstruktion, die stabile thermische Umgebung und die Hochleistungsoptik sorgen für eine präzise Bildgebung über das gesamte Sichtfeld. Die integrierte Rauschunterdrückungseinheit reduziert das Hintergrundrauschen und liefert kontrastreiche Bilder. Die Maschine ist mit einer hochmodernen Bildverarbeitungsplattform ausgestattet. Es verfügt über schnelle, intuitive und hochgenaue Fehlererkennungsalgorithmen, die auf fortschrittlicher Mustererkennungstechnologie basieren. Die adaptive Signalverbesserung passt sich automatisch an sich ändernde Bedingungen an, um auch kleinste Fehler zu erkennen. Das Tool bietet auch integrierte Analyse- und Messfunktionen, die eine fortschrittliche Prozesssteuerung und -optimierung ermöglichen. TENCOR STARlight SL3 UV URSA verfügt über eine Windows-basierte Benutzeroberfläche, die eine einfache und effiziente Bedienung ermöglicht. Es beinhaltet einen umfassenden Satz einfach zu bedienender Tools und ermöglicht eine einfache Datenerfassung und -auswertung. Das Asset unterstützt Netzwerkkonnektivität und ist mit gängigen Fertigungssoftwarepaketen kompatibel und ermöglicht eine flexible Integration in bestehende Produktionslinien. STARlight SL3 UV URSA ist ein leistungsstarkes und funktionsreiches Modell zur Inspektion von Masken- und Waferanwendungen. Die fortschrittliche Dual-Wellenlängen-Bildgebungstechnologie und umfangreiche Bildverarbeitungsfunktionen bieten höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit. Kombiniert mit seinen flexiblen Integrationsmöglichkeiten ist es eine ideale Lösung für die automatisierte Masken- und Waferinspektion.
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