Gebraucht KLA / TENCOR Starlight SL3 #293815984 zu verkaufen

KLA/TENCOR Starlight SL3 ist eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die für eine Vielzahl von Anwendungsanforderungen eine unübertroffene Genauigkeit und einen unübertroffenen Durchsatz bietet. Das System kombiniert fortschrittliche Optik, Waferproduktion und Fehlererkennungstechnologien, um überlegene Leistung und Zuverlässigkeit in Produktions- und F & E-Umgebungen zu bieten. KLA Starlight SL3 verfügt über ein dreistufiges optisches Pfad-Front-End und zwei Zwischenstufen, die eine höhere Empfindlichkeit, Effizienz und Dynamik bieten. Der optische Pfad umfasst eine hochgenaue optische Ausrichtungs- und Sensormaschine, die Defekte sowohl auf der Maske als auch auf der Waferoberfläche genau lokalisiert und inspiziert. Das Werkzeug umfasst zwei Biegestufen mit magnetischen Linear- und Drehgebern sowie dynamische Autofokus-Technologie. Für eine effiziente Fehlererkennung verwendet TENCOR Starlight SL3 asset modernste Bildmanipulationsalgorithmen und einen hochauflösenden Spektralfilter. Der Algorithmus maximiert die Bildqualität und minimiert Rauschen für Punktgenauigkeit und Wiederholbarkeit. Das Modell kann bis zu 20 Megapixel-Auflösungsbilder aufnehmen, die zur Erkennung, Messung und Analyse von Defekten auf Masken- und Waferoberflächen verwendet werden können. Die automatisierten Fehlererkennungs- und Analysefunktionen der Geräte ermöglichen eine schnelle und robuste Analyse von Masken- und Waferdefekten. Die Software von Starlight SL3 interpretiert die Daten in leicht verständliche grafische Anzeigen von erkannten und identifizierten Fehlern. Die Schnittstelle bietet einen vereinfachten Workflow für die automatisierte Fehleranalyse, was die Zykluszeit reduziert, den Durchsatz erhöht und die Fehlerprüfzeit reduziert. KLA/TENCOR Starlight SL3 System ist mit einer Low-Power-Architektur gebaut und verbraucht durchschnittlich nur 19 Watt Leistung. Das Gerät verfügt über fünf Minuten Orientierung und Einstellzeit und eine beeindruckende Abklingzeit von 600ms. Darüber hinaus sorgt die fortschrittliche Hardware- und Softwareintegration für optimale Maschinenleistung und Kompatibilität mit den meisten Industriestandard-Fertigungswerkzeugen. KLA Starlight SL3 ist eine ausgezeichnete Wahl für jede Anwendung, die eine genaue und effiziente Masken- und Waferinspektion erfordert. Seine erweiterte Optik, Waferproduktion, Fehlererkennung und Bildverarbeitung ermöglichen eine überlegene Leistung und eine robuste Analyse von Masken und Wafern. Die leistungsarme Architektur und die Kompatibilität mit Industriestandards machen es daher ideal für eine Vielzahl von Inspektionsaufgaben.