Gebraucht KLA / TENCOR Surfscan SP1 Classic #9147123 zu verkaufen

KLA/TENCOR SP1 Classic Mask and Wafer Inspection Equipment ist ein branchenführendes optisches Inspektions- und Überprüfungssystem. Diese Plattform dient der präzisen Inspektion von fortschrittlichen Lithographie-Retikeln, Photomasken, Wafern und anderen gemusterten Materialien, die eine kosteneffiziente Analyse und Optimierung von geräte- und deckschichtkritischen Dimensionen (CD) und Design ermöglichen. Ausgestattet mit fortschrittlicher Seitenstreu-Bildgebungstechnologie und einer Vielzahl automatisierter Masken- und Wafer-Inspektionssysteme bietet KLA SP1 Classic saubere, wiederholbare Ergebnisse, die immer strengere Ertragsanforderungen erfüllen. TENCOR SP 1 CLASSIC Maske und Wafer Inspektion Maschine bietet eine Fülle von Funktionen für die Musterprüfung und Überprüfung. Alle Messungen und Ergebnisse basieren auf der höchsten Messgenauigkeit. Fortschrittliche Bildgebungs- und Inspektionstechnologien kombinieren sich für eine schnelle, automatisierte Partikel- und Fehlererkennung, Feature-Edge-Analyse und transparente Foliendickenmessung - alles innerhalb einer ergonomischen, benutzerfreundlichen Plattform. TENCOR SP1 Classic-Tool integriert KLA patentierte automatisierte Partikelinspektion Asset, das entworfen ist, um schnell und kostengünstig Partikel auf einer Reihe von Wafern zu identifizieren und zu messen. Fortschrittliche Algorithmen ermöglichen eine schnelle Analyse niedriger bis moderater Expositionen und Volumendefekte, während die selbstkalibrierende hochauflösende Optik des Modells den Durchsatz und die Genauigkeit verbessert. Für eine bessere Mustererkennung verfügen verschiedene automatisierte Maskeninspektionssysteme über eine einzige Hardware, die konsistente Messungen und Inspektionen über mehrere Technologien hinweg ermöglicht. Als Präzisionsanalyseplattform wurde SP1 Classic Mask and Wafer Inspection entwickelt, um mehrere Inspektionswerkzeuge in einer einzigen Plattform zu unterstützen und Kosten und Zeit zu sparen. Diese Funktion ermöglicht auch eine einfache Mustererkennung und eine verbesserte Fehlererkennung. Es stehen auch mehrere Bilder und Analysemethoden zur Verfügung, darunter Kantenmessung, effektive Inspektion, Overlay-Beobachtung, Layer-by-Layer-Betrachtung, flache Pixel-Betrachtung, Querschnitt und Neigungsansicht für optimierte Überprüfungen. Die KLA/TENCOR SP 1 CLASSIC-Plattform umfasst zudem eine umfassende Palette von Analyse- und Berichtsfunktionen für genaue Ausbeute auf Modulebene und Waferebene. Automatisiertes Scannen, Etikettieren, Kalibrieren und Reporting von Materialien sind durch die intuitive Software des Systems erreichbar. Intelligente Datenspeicherung ermöglicht eine optimale Auslastung und schnellere Analyse, während die Batch-Analyse und die gemeinsame Nutzung Risiken und Ausfallzeiten im Zusammenhang mit der manuellen Dateneingabe verringert. SP 1 CLASSIC Masken- und Wafer-Inspektionseinheit ist ein wesentliches Werkzeug für Engineering-Teams, die an modernsten Prozessknoten in der Halbleiter-, Optoelektronik-, Photomasken- und Nanotechnologie-Industrie arbeiten. Durch die Präzisionsprüfung dieser Plattform und konstant genaue Ergebnisse profitieren Anwender von verbesserten Gesamtrenditen und Kosteneinsparungen bei der Produktentwicklung.