Gebraucht KLA / TENCOR Surfscan SP1-TBI #293814743 zu verkaufen
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KLA/TENCOR Surfscan SP1-TBI ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die entwickelt wurde, um die Qualität von Halbleiterscheiben und Masken zu überprüfen, die bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen (IC) verwendet werden. Das System verwendet proprietäre, ultrapräzise Objektive, zusammen mit fortschrittlicher Optik und Hochgeschwindigkeitsbildtechnologie, um kleine Defekte und Verunreinigungen in kritischen Schichten des Wafer- oder Maskenmaterials zu erkennen. KLA Surfscan SP1-TBI inspiziert Wafer und Masken schnell und präzise ohne manuelle Stichprobenkontrollen. Das Gerät scannt automatisch den gesamten Wafer oder die Maske nach Defekten und kann einzelne Merkmale bis auf eine Mindestgröße von 0,5 Mikron isolieren und messen. Surfscan vermeidet menschliche Fehler im Zusammenhang mit manuellen Inspektionsverfahren, was die Kosten für die Verarbeitung eines Wafers oder einer Maske von 2 Stunden auf 10 Minuten reduziert. Die Maschine enthält eine Präzisions-Roboterstufe, die direkt am Wafer befestigt und unter den Zielen für hochauflösende Inspektion geführt wird. Die Optik des Werkzeugs hat eine minimale Auflösung bis zu 0,5 Mikrometer und erkennt dadurch Fehler, die von anderen optischen Inspektionssystemen nicht gesehen werden. Zusätzlich ist die Anlage mit einem integrierten Partikelzähler ausgestattet, der Defekte anhand quantitativer Messungen in drei Kategorien klassifiziert und klassifiziert. TENCOR Surfscan SP1-TBI bietet eine Reihe von zusätzlichen Funktionen, einschließlich einer integrierten Dunkelkammer, die es dem Bediener ermöglicht, den Wafer oder die Maske unter ultraviolettem Licht zu sehen; dies hilft, kleine Kratzer oder Partikel zu erkennen, die im sichtbaren Spektrum nicht sichtbar sind. Das Modell verfügt außerdem über ein Kalibriermodul, mit dem der Anwender die Optik vor jeder Inspektion perfekt kalibrieren und ausrichten kann. Insgesamt ist Surfscan SP1-TBI eine fortschrittliche Masken- und Wafer-Inspektionsausrüstung, die Wafer und Masken mit hoher Geschwindigkeit inspizieren kann. Mit extrem präziser Optik und ausgefeilter Bildgebungstechnologie kann das System kleine Defekte und Verunreinigungen in den Materialschichten erkennen, wodurch zeitaufwändige manuelle Prüfungen deutlich reduziert und Ergebnisse mit hoher Genauigkeit erzielt werden.
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