Gebraucht KLA / TENCOR Surfscan SP2 #293759533 zu verkaufen
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ID: 293759533
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2010
Inspection system, 12"
EFEM
Carrier:
(3) Advantage SW CID, Phx, Shinko (Load port)
8 User-configurable LEDs to display the load port status
Load / Unload button for manual delivery hand-off
Cassette / Wafer mapping: FOUP and detect wafer
Empty slots and cross-slotted wafer
Chamber:
Powder coat panels kit: 8"-12"
Vacuum option optical filter
Load port vacuum: Tripple, 12"
FIMS Application:
Edge exclusion: 2 mm
Oblique incidence illumination (High / Standard / Low)
Normal incident illumination (High / Standard / Low)
Enhanced XY Coordinates
IDM SP2
PC:
Processer: Intel Xeon CPU 3.20 GHz
Handler: SecondaryUI, Phoenix, SP2
RAM Memory: 3.5 GB
DVD-ROM
Mouse
Keyboard
3.5" Floppy
Facilities:
CDA: > 28.3 Nl/min, > 6.6791 kg/cm2
VAC: > 28.317 l/min, >-700 mm Hg
Power supply: 208 VAC, 3 W-N
2010 vintage.
KLA/TENCOR Surfscan SP2 ist eine hochmoderne Masken- und Waferinspektionsanlage, die in der Halbleiterindustrie verwendet wird, um Fehler zu erkennen und die Qualität von Photomasken und Wafern während des Herstellungsprozesses sicherzustellen. Dieses innovative System kombiniert fortschrittliche Technologie mit hoher Präzision, um gründliche Inspektionsfunktionen bereitzustellen. Damit können Halbleiterhersteller die Produktion mit hohem Ertrag aufrechterhalten und strenge Qualitätsstandards erfüllen. Kern der KLA Surfscan SP2-Einheit ist die ausgeklügelte Bildgebungstechnologie, die fortschrittliche Optik und Sensoren verwendet, um hochauflösende Bilder der Oberflächen von Masken und Wafern zu erfassen. Diese Bilder werden dann mit leistungsstarken Algorithmen und Software analysiert, um verschiedene Arten von Defekten zu erkennen und zu klassifizieren, einschließlich Partikeln, Musterabweichungen und anderen Anomalien, die die Leistung und Zuverlässigkeit von Halbleiterbauelementen beeinflussen können. Eines der Hauptmerkmale von TENCOR SURFSCAN SP 2 ist seine Fähigkeit, Masken und Wafer auf mikroskopischer Ebene zu inspizieren und sicherzustellen, dass auch kleinste Defekte genau identifiziert und klassifiziert werden. Dieses Maß an Präzision ist in der Halbleiterindustrie entscheidend, wo die Größe und Dichte der Schaltungsmuster weiter schrumpfen, wodurch es immer schwieriger wird, Fehler mit herkömmlichen Prüfverfahren zu erkennen. SURFSCAN SP 2 ist mit mehreren Inspektionsmodi ausgestattet, so dass Benutzer den Inspektionsprozess auf der Grundlage der spezifischen Anforderungen ihrer Fertigungsprozesse anpassen können. Diese Modi umfassen Helligkeitsfeld-, Dunkelfeld- und Hybrid-Bildgebungsmodi, die jeweils einzigartige Funktionen zur Erkennung verschiedener Arten von Fehlern und zur Optimierung der Inspektionsleistung bieten. Darüber hinaus verfügt Surfscan SP2 über eine benutzerfreundliche Oberfläche, die es den Betreibern ermöglicht, Inspektionen effizient einzurichten und durchzuführen, den Inspektionsprozess zu optimieren und Ausfallzeiten in der Produktion zu minimieren. Die Maschine bietet auch automatisierte Fehlerüberprüfungs- und Klassifizierungsfunktionen, so dass Benutzer Fehler schnell erkennen und analysieren können, ohne manuell eingreifen zu müssen, was die Produktivität und den Ertrag weiter verbessert. Neben der Fehlererkennung kann TENCOR Surfscan SP2 auch kritische Maßmessungen durchführen und wertvolle Daten zur Größe und Form von Merkmalen auf Masken und Wafern liefern. Diese Informationen sind wesentlich für die Gewährleistung der Genauigkeit von Halbleiterbauelementen und die Aufrechterhaltung der Prozesssteuerung in der Fertigung. Insgesamt ist KLA/TENCOR SURFSCAN SP 2 ein hochmodernes Masken- und Waferinspektionswerkzeug, das beispiellose Fähigkeiten zur Erkennung von Defekten, zur Gewährleistung der Qualität von Halbleiterbauelementen und zur Steigerung der Produktionseffizienz in der Halbleiterindustrie bietet. Seine fortschrittliche Bildgebungstechnologie, mehrere Inspektionsmodi und benutzerfreundliche Schnittstelle machen es zu einem leistungsstarken Werkzeug für Halbleiterhersteller, die hohe Ausbeute und Zuverlässigkeit in ihren Prozessen erreichen möchten.
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