Gebraucht KLA / TENCOR Surfscan SP2 #293769272 zu verkaufen

KLA / TENCOR Surfscan SP2
ID: 293769272
Wafergröße: 8"-12"
Weinlese: 2006
Unpatterned surface inspection system, 8"-12" FOUP/FIMS Handler 2006 vintage.
KLA/TENCOR Surfscan SP2 ist ein Masken- und Wafer-Inspektionsgerät, das zur Erkennung mikroskopischer Defekte verwendet wird, die die elektrische Leistung integrierter Schaltungen beeinträchtigen können. Dieses fortschrittliche System verwendet eine ausgeklügelte Optik, um die gesamte Oberfläche der Maske oder des Wafers visuell zu inspizieren und nach Fehlern mit der höchstmöglichen Auflösung zu suchen. KLA Surfscan SP2 ist mit einer umfassenden Palette von Inspektionstechnologien ausgestattet. Dazu gehören optische Fehlererkennung, kritische Dimensionsabtastung und Retikelrückstandserkennung sowie Konnektivitätserkennung. Es verfügt über eine Inspektionsgeschwindigkeit von bis zu 15 Wafern pro Stunde und liefert genaue Daten bei Auflösungen bis zu 0,0014 Mikrometer. Die SP2-Einheit verwendet eine anspruchsvolle Objektivlinse mit einem innovativen Fünf-Positionen-Mechanismus, der Bildverzerrungen beseitigt. Es ist auch mit einer mehrdimensionalen wählbaren alphanumerischen Fähigkeit ausgestattet, kontaminierte oder verkratzte Wafer schnell und genau zu identifizieren und abzulehnen. TENCOR SURFSCAN SP 2 verfügt über eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche, mit der Bediener schnell Parameter auswählen und die Maschine für jeden Auftrag anpassen können. Automatisierungsfunktionen vereinfachen auch die Bedienung, reduzieren den Zeitaufwand für die Einrichtung und verringern das Potenzial für menschliches Versagen. Die vom Tool erzeugten detaillierten Daten können in das optionale SurfStat-Datenanalysepaket importiert werden, so dass Benutzer mikroskopische Fehler schnell und genau erkennen und beheben können. Diese Ressource ist hochgenau und flexibel und somit ideal für die Qualitätskontrolle und andere Prozessmanagementanwendungen. KLA/TENCOR SURFSCAN SP 2 ist eine hochentwickelte Technologie für die Masken- und Waferinspektion und damit eine erste Wahl für die anspruchsvollsten Anwendungen. Hervorragende Sichtbarkeit und Auflösung in Kombination mit einfacher Bedienung und Datenverwaltung machen das Modell zu einem idealen Werkzeug für die Fehleranalyse und vorbeugende Wartung.
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