Gebraucht KLA / TENCOR Surfscan SP2 #9228176 zu verkaufen

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ID: 9228176
Weinlese: 2006
Particle measurement system, 12" P/N: 0074965-000 Sensitivity modes includes: Standard throughput inspection mode High throughput inspection mode High sensitivity inspection mode Advanced illumination optics supports following mode: Normal illumination Oblique illumination Enables qualification of current and next-generation substrates: SOI Strained SOI Strained SI Optimized sensitivity Throughput: - < 37nm defect sensitivity on polished bare silicon Qualification and monitoring of process tools: 90, 65, & 45 nm technology nodes Components included: UV Laser Defect map and histogram with zoom Micro view measurement capability Surf image Real-time defect classification (RTDC) Operating system: Microsoft Windows XP Book on board Operations manuals Puck handling: 300/200mm Equipped with powder coat painted panels Phoenix dual FIMS vacuum wafer handler, 12" (pp) Secondary UI for bulkhead installation Configured for MCCB (us/eu) power inlet Configured for IC/OEM mfg surf quality recipe Optical filter Enhanced XY coordinates: Standard classification LPD-N classification LPD-ES classification Grading and sorting 20 Degree 40 Degree Rough films Enabled: Haze Haze normalization Haze analysis Haze line classification IDM SP2 Edge exclusion: 2mm 4 Color light tower (RYGB) Gem/secs and HSMS E39 Object services: E40 Process job management E94 Control job management E90 Substrate tracking E87 Carrier management services (based on e39) Control jobs (E94 Based on E39) Substrate tracking (E90 Based on E39) (2) Advantage radio frequency (RF) carrier ID readers: Identifies name of carrier (FOUP) Intended for use with phoenix handler and isoport loadports Reader required for each FOUP loadport 2006 vintage.
KLA/TENCOR Surfscan SP2 ist eine Masken- und Waferinspektionsanlage, die für die Halbleiterherstellungsindustrie entwickelt wurde. Dieses System ermöglicht die Inspektion von Bildqualität, Mustergenauigkeit und eingehender Fehlerinspektion zur Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen mikroelektronischen Geräten. Es bietet beispiellose Bildgeschwindigkeit und Auflösung, um sicherzustellen, dass die hochwertigsten Masken- und Waferbilder erzeugt werden. KLA Surfscan SP2 wird von einer Reihe fortschrittlicher Optik und High-End-Detektoren angetrieben, die mit einer Hochleistungs-Computereinheit für eine schnelle Verarbeitung verbunden sind. Es nutzt die Laser Interferometric Confocal Technology (LCT), um Fehler in Subpixelgröße zu erfassen und zu analysieren. Die Maschine verwendet auch patentierte 3D-Scan-Objektive und hochauflösende Bilddetektoren, um die Genauigkeit der Inspektionen zu erhöhen. TENCOR SURFSCAN SP 2 ist mit einer Reihe von Kalibrierungsstandards für eine Vielzahl von Wafermaterialien wie Al2O3, InP, SiGe usw. ausgestattet. Dadurch wird sichergestellt, dass bei der Inspektion die besten Abbildungsergebnisse erzielt werden. Das Tool kann auch eine Vielzahl von anormalen 3D-Mustern auf den Masken oder Wafern erkennen, so dass subtile Fehler und Variationen besser erkannt werden können. KLA/TENCOR SURFSCAN SP 2 wurde entwickelt, um eine umfassende Masken- und Wafer-Inspektionslösung bereitzustellen. Dazu gehört die Möglichkeit, Moire-Muster, Fiducials, CD-Muster und Mikromuster bis auf 0,12 Mikrometer zu überprüfen. Alle diese Merkmale können in Echtzeit überprüft werden, wodurch die Analyse nach der Inspektion entfällt. Zusätzlich kann das Gut Oxid- und Partikelfehler, Verdünnung oder Verdickung und andere Submikron-Filmdefekte erkennen. Zur weiteren Analyse ist TENCOR Surfscan SP2 mit einer Vielzahl von Bildfunktionen ausgestattet, darunter Lupe, Flächenauswahl, Zoom, Überlagerung der Führungslinie und Profilmessung. Es enthält auch eine Reihe von Filtern, wie Farbumkehr, Zeitstempel, Fokusebene und Kantenerkennung. Jede dieser Funktionen wurde entwickelt, um die Genauigkeit und Geschwindigkeit des Inspektionsprozesses zu verbessern. Insgesamt ist Surfscan SP2 ein leistungsfähiges und zuverlässiges Masken- und Wafer-Inspektionsmodell für die Halbleiterherstellung. Es bietet branchenführende Geschwindigkeit und Auflösung für eine breite Palette von Bildanalyse und Inspektion Aufgaben, so dass es eine gute Wahl für Qualitätskontrolle und Produktionsoptimierung.
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